| 摘要 | 第5-8页 |
| ABSTRACT | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第18-34页 |
| 1.1 稀土抛光粉的发展历程 | 第18-19页 |
| 1.2 氧化铈基抛光粉的应用现状 | 第19-20页 |
| 1.3 稀土抛光粉的制备 | 第20-24页 |
| 1.3.1 固相反应法 | 第20-21页 |
| 1.3.2 液相反应法 | 第21-24页 |
| 1.4 铈基稀土抛光粉的氟化 | 第24-26页 |
| 1.5 稀土抛光粉与SiO_2玻璃的作用机理 | 第26-30页 |
| 1.5.1 化学机械抛光的材料去除机理 | 第26-28页 |
| 1.5.2 铈基磨料对光学玻璃表面化学机械抛光机理 | 第28-30页 |
| 1.6 本课题的研究目的及研究内容 | 第30-34页 |
| 1.6.1 研究目的和意义 | 第30-31页 |
| 1.6.2 主要研究内容 | 第31-34页 |
| 第二章 计算理论及其在氧化铈中应用 | 第34-46页 |
| 2.1 第一性原理理论基础——密度泛函理论 | 第34-39页 |
| 2.1.1 Kohn-Sham方程 | 第34-35页 |
| 2.1.2 交换-关联能 | 第35-36页 |
| 2.1.3 平面波和赝势 | 第36页 |
| 2.1.4 Ce4f电子在位库仑修正 | 第36-38页 |
| 2.1.5 迁移扩散计算方法 | 第38-39页 |
| 2.2 量子力学在CeO_2中的应用 | 第39-43页 |
| 2.3 VASP计算软件包简介 | 第43-44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第三章 常压及外压下CeO_2力学性能和电子结构 | 第46-66页 |
| 3.1 CeO_2的分析模型和计算设置 | 第46-47页 |
| 3.2 结构参数和稳定性 | 第47-48页 |
| 3.3 常压下CeO_2力学性能 | 第48-53页 |
| 3.4 常压下CeO_2电子结构 | 第53-56页 |
| 3.5 外压下CeO_2力学性能 | 第56-59页 |
| 3.6 外压下CeO_2晶格动力学 | 第59-61页 |
| 3.7 外压下CeO_2电子结构 | 第61-63页 |
| 3.8 本章小结 | 第63-66页 |
| 第四章 氟化对CeO_2力学性能和电子结构影响 | 第66-84页 |
| 4.1 计算方法 | 第66页 |
| 4.2 氟、硅和磷掺杂CeO_2结构 | 第66-68页 |
| 4.3 氟、硅和磷掺杂CeO_2单胞性能 | 第68-71页 |
| 4.4 氟化体系CeO_2-xFx的力学性能 | 第71-73页 |
| 4.5 氟化体系CeO_2-xFx的电子结构 | 第73-77页 |
| 4.6 外压下氟化体系CeO_(1.75)F_(0.25)的力学性质 | 第77-80页 |
| 4.7 外压下氟化体系CeO_(1.75)F_(0.25)的电子结构 | 第80-81页 |
| 4.8 本章小结 | 第81-84页 |
| 第五章 CeO_2的氟化及其对晶体形貌影响 | 第84-104页 |
| 5.1 CeO_2表面结构计算模型 | 第84-85页 |
| 5.2 清洁CeO_2颗粒表面形貌 | 第85-87页 |
| 5.3 氟化CeO_2颗粒表面形貌 | 第87-92页 |
| 5.3.1 氟原子在CeO_2表面吸附构型 | 第87-89页 |
| 5.3.2 掺氟25at%的CeO_2颗粒表面形貌 | 第89-90页 |
| 5.3.3 氟掺杂浓度对CeO_2颗粒表面形貌的影响 | 第90-92页 |
| 5.4 氟原子由CeO_2表面向内迁移的氟化过程 | 第92-97页 |
| 5.4.1 CeO_2表面的表层氧空位形成能 | 第92-93页 |
| 5.4.2 氟原子迁入CeO_2表层氧空位 | 第93-95页 |
| 5.4.3 氟化CeO_2(100)面的次表层氧空位形成能 | 第95-96页 |
| 5.4.4 氟原子迁入CeO_2次表层氧空位 | 第96-97页 |
| 5.5 氟化CeO_2表面的电子结构 | 第97-102页 |
| 5.5.1 氟化CeO_2表面的电子态密度分布 | 第97-99页 |
| 5.5.2 氟化CeO_2表面的电荷密度分布 | 第99-102页 |
| 5.6 本章小结 | 第102-104页 |
| 第六章 氟化铈基抛光粉的抛光反应过程 | 第104-114页 |
| 6.1 计算模型和参量设置 | 第104-105页 |
| 6.2 SiO_2晶粒在氧化铈表面吸附构型 | 第105-108页 |
| 6.2.1 SiO_2晶粒在CeO_2(111)表面吸附构型 | 第105-107页 |
| 6.2.2 SiO_2晶粒在CeO_(1.75)F_(0.25)(100)表面吸附构型 | 第107-108页 |
| 6.3 SiO_2晶粒在氧化铈表面上的磨削反应过程 | 第108-111页 |
| 6.3.1 SiO_2晶粒在CeO_2(111)表面上的磨削反应过程 | 第108-110页 |
| 6.3.2 SiO_2晶粒在CeO_(1.75)F_(0.25)(100)表面上的磨削反应过程 | 第110-111页 |
| 6.4 本章小结 | 第111-114页 |
| 结论 | 第114-116页 |
| 本论文的创新点 | 第116-118页 |
| 参考文献 | 第118-126页 |
| 致谢 | 第126-128页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第128-130页 |
| 作者和导师简介 | 第130-132页 |
| 附件 | 第132-134页 |
