含磁集聚结构的磁阻单元的设计、制备与测试
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1.绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 磁集聚结构与磁阻传感器的研究发展现状 | 第10-13页 |
| 1.3 薄膜技术的发展动态 | 第13-15页 |
| 1.4 论文的主要工作 | 第15-17页 |
| 2.磁集聚结构与磁阻单元的设计及仿真 | 第17-32页 |
| 2.1 磁阻单元总体结构 | 第17-24页 |
| 2.1.1 薄膜磁阻结构设计原理 | 第17-19页 |
| 2.1.2 结构设计仿真分析 | 第19-24页 |
| 2.2 磁集聚结构 | 第24-31页 |
| 2.2.1 外置磁集聚结构特性理论分析 | 第24-26页 |
| 2.2.2 磁通聚集放大因子分析 | 第26-27页 |
| 2.2.3 磁集聚结构仿真分析 | 第27-31页 |
| 2.3 小结 | 第31-32页 |
| 3.材料选择与薄膜表征技术 | 第32-40页 |
| 3.1 材料选择 | 第32-34页 |
| 3.1.1 磁集聚结构材料 | 第32页 |
| 3.1.2 磁阻薄膜材料 | 第32-33页 |
| 3.1.3 偏置电极材料 | 第33-34页 |
| 3.2 磁性薄膜性能表征测试技术 | 第34-39页 |
| 3.2.1 四探针测试仪 | 第34-35页 |
| 3.2.2 台阶仪 | 第35-36页 |
| 3.2.3 X射线衍射(XRD) | 第36-37页 |
| 3.2.4 原子力显微镜（AFM） | 第37-38页 |
| 3.2.5 磁屏蔽筒 | 第38-39页 |
| 3.3 小结 | 第39-40页 |
| 4.薄膜设计与制备 | 第40-49页 |
| 4.1 制备尺寸的设计 | 第40-43页 |
| 4.1.1 磁阻结构尺寸设计 | 第40-42页 |
| 4.1.2 磁集聚结构尺寸设计 | 第42-43页 |
| 4.2 薄膜制备技术 | 第43-44页 |
| 4.3 制备工艺流程 | 第44-48页 |
| 4.3.1 磁阻单元制备工艺流程 | 第44-47页 |
| 4.3.2 磁集聚结构制备 | 第47-48页 |
| 4.4 小结 | 第48-49页 |
| 5 磁集聚结构与磁阻结构测试 | 第49-68页 |
| 5.1 工艺条件对磁性薄膜的影响 | 第49-56页 |
| 5.1.1 溅射气压对薄膜磁阻性能影响 | 第50-53页 |
| 5.1.2 种子层对磁阻单元薄膜性能影响 | 第53-56页 |
| 5.2 薄膜厚度对磁阻性能影响 | 第56-58页 |
| 5.3 偏置电极性能测试 | 第58-59页 |
| 5.4 磁组结构测试 | 第59-63页 |
| 5.4.1 薄膜磁阻厚度测试 | 第59-61页 |
| 5.4.2 磁阻灵敏度测试 | 第61-63页 |
| 5.5 含磁集聚结构磁阻单元性能测试 | 第63-67页 |
| 5.6 小结 | 第67-68页 |
| 6. 论文总结与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 全文总结 | 第68页 |
| 6.2 下一步工作展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 攻读硕士学位期间所取得的研究成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
