| 摘要 | 第7-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 研究背景及国内外研究现状 | 第13-18页 |
| 1.2.1 普通介质中的调制不稳定性研究 | 第14-16页 |
| 1.2.2 超常介质中的调制不稳定性研究 | 第16-18页 |
| 1.3 本文的创新点、主要工作和成果 | 第18-20页 |
| 1.3.1 本文的主要工作 | 第18-20页 |
| 1.3.2 本文的创新点 | 第20页 |
| 1.4 本文的结构 | 第20-22页 |
| 第二章 超常介质中交叉相位调制的理论研究 | 第22-34页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 超常介质的基本概念 | 第22-28页 |
| 2.2.1 超常介质的定义 | 第22-23页 |
| 2.2.2 左手材料概念与特性 | 第23-25页 |
| 2.2.3 超常介质的制备和应用 | 第25-28页 |
| 2.3 超常介质的色散和非线性 | 第28-29页 |
| 2.4 超常介质中的交叉相位调制 | 第29-30页 |
| 2.5 调制不稳定性的产生与分析方法 | 第30-31页 |
| 2.6 超常介质中交叉相位调制不稳定性的理论模型 | 第31-33页 |
| 2.7 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 超常介质中两光波的传输模型 | 第34-48页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 脉冲在超常介质中的传输 | 第34-43页 |
| 3.2.1 超常介质中的色散系数 | 第36-40页 |
| 3.2.2 超常介质中的非线性系数 | 第40-42页 |
| 3.2.3 超常介质中的色散和非线性系数图 | 第42-43页 |
| 3.3 超常介质中XMI增益谱表达式 | 第43-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 超常介质XPM不稳定性仿真与分析 | 第48-64页 |
| 4.1 引言 | 第48-49页 |
| 4.2 忽略GVM和三阶色散失配对XMI增益谱的影响 | 第49-56页 |
| 4.2.1 两光束都在负折射率正常群速度色散区 | 第49-52页 |
| 4.2.2 两光束都在正折射率区 | 第52-54页 |
| 4.2.3 两光束都在负折射率反常群速度色散区 | 第54-56页 |
| 4.3 考虑GVM和三阶色散失配对XMI增益谱的影响 | 第56-60页 |
| 4.3.1 两光束都在负折射率区域 | 第56-58页 |
| 4.3.2 两光束都在正折射率区域 | 第58-59页 |
| 4.3.3 两光束在不同的折射率区域 | 第59-60页 |
| 4.4 完整仿真系统的搭建 | 第60-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-67页 |
| 5.1 总结与归纳 | 第64-66页 |
| 5.2 存在的问题和下一步的工作 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第72-73页 |
| 附件 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |