摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 国内外相关领域的研究进展 | 第10-11页 |
1.1.1 二氧化钛光催化研究进展 | 第10-11页 |
1.2 二氧化钛的光催化机理 | 第11-12页 |
1.3 光催化反应的影响因素 | 第12-15页 |
1.3.1 光催化剂本身影响因素 | 第12-13页 |
1.3.1.1 半导体的能级 | 第12页 |
1.3.1.2 光生载流子的捕获 | 第12页 |
1.3.1.3 晶粒的尺寸 | 第12-13页 |
1.3.1.4 比表面积 | 第13页 |
1.3.2 环境因素对光催化效率的影响 | 第13-15页 |
1.3.2.1 光源 | 第13页 |
1.3.2.2 反应温度 | 第13页 |
1.3.2.3 pH | 第13-14页 |
1.3.2.4 初始浓度 | 第14页 |
1.3.2.5 光催化剂的投加量 | 第14-15页 |
1.4 光催化剂的改性方法 | 第15-16页 |
1.4.1 非金属离子掺杂 | 第15页 |
1.4.2 金属离子掺杂 | 第15页 |
1.4.3 半导体复合 | 第15-16页 |
1.4.4 贵金属修饰 | 第16页 |
1.4.5 染料光敏化 | 第16页 |
1.5 二氧化钛的制备方法 | 第16-17页 |
1.5.1 直接沉淀法 | 第16页 |
1.5.2 均相沉淀法 | 第16-17页 |
1.5.3 水热法 | 第17页 |
1.5.4 溶胶-凝胶法 | 第17页 |
1.6 本文研究的目的和任务 | 第17-19页 |
第二章 实验部分 | 第19-26页 |
2.1 实验仪器 | 第19-20页 |
2.2 实验药品 | 第20页 |
2.3 TiO_2催化剂的制备 | 第20-21页 |
2.3.1 二氧化钛光催化剂的制备 | 第20-21页 |
2.4 光催化剂的表征 | 第21-23页 |
2.4.1 X 射线衍射分析 | 第21页 |
2.4.2 紫外-可见光谱(UV-Vis) | 第21-22页 |
2.4.3 透射电子显微镜 | 第22页 |
2.4.4 X 射线电子能谱分析 | 第22页 |
2.4.5 荧光 | 第22页 |
2.4.6 X 射线能谱分析法 | 第22页 |
2.4.7 比表面积 | 第22-23页 |
2.5 光催化剂的性能评价 | 第23-26页 |
2.5.1 确定甲基橙的最大吸收波长 | 第23-24页 |
2.5.2 绘制模板废水的标准曲线 | 第24页 |
2.5.3 光催化反应装置及实验方法 | 第24-26页 |
第三章 W/TiO_2的制备、表征及光催化降解甲基橙的研究 | 第26-52页 |
3.1 引言 | 第26页 |
3.2 光催化剂的制备 | 第26-27页 |
3.3 光催化剂的表征 | 第27-38页 |
3.3.1 光催化剂的 XRD 分析 | 第27-31页 |
3.3.1.1 不同钨的掺杂量 W/TiO_2光催化剂的 XRD 图谱 | 第27-29页 |
3.3.1.2 不同煅烧温度 W/TiO_2光催化剂的 XRD 图谱 | 第29-30页 |
3.3.1.3 不同煅烧时间 W/TiO_2光催化剂的 XRD 图谱 | 第30-31页 |
3.3.2 光催化剂的 DRS 分析 | 第31-34页 |
3.3.2.1 W 掺杂比例对催化剂吸光能力的影响 | 第31-33页 |
3.3.2.2 煅烧温度对催化剂吸光能力的影响 | 第33-34页 |
3.3.3 光催化剂的 XPS 和 EDS 分析 | 第34-35页 |
3.3.4 光催化剂的 TEM 分析 | 第35-36页 |
3.3.5 光催化剂的 PL 分析 | 第36-37页 |
3.3.6 光催化剂的 BET 分析 | 第37-38页 |
3.4 制备条件对 W/TiO_2光催化性能的影响 | 第38-48页 |
3.4.1 不同掺杂量的影响 | 第38-42页 |
3.4.2 不同煅烧温度的影响 | 第42-43页 |
3.4.3 不同煅烧时间的影响 | 第43-45页 |
3.4.4 溶液 pH 值的影响 | 第45-46页 |
3.4.5 溶液初始浓度的影响 | 第46-48页 |
3.5 催化剂的稳定性实验 | 第48-49页 |
3.6 最佳条件下,催化剂降解染料的紫外光谱分析 | 第49-51页 |
3.8 本章小结 | 第51-52页 |
第四章 La/W/TiO_2的制备、表征及光催化降解甲基橙的研究 | 第52-76页 |
4.1 引言 | 第52页 |
4.2 La/W/TiO_2复合光催化剂的制备 | 第52-53页 |
4.3 La/W/TiO_2复合光催化剂的表征 | 第53-62页 |
4.3.1 光催化剂的 XRD 分析 | 第53-55页 |
4.3.1.1 不同 La 掺杂下光催化剂的 XRD 图谱 | 第53-54页 |
4.3.1.2 不同煅烧温度下光催化剂的 XRD 图谱 | 第54-55页 |
4.3.1.3 不同煅烧时间下光催化剂的 XRD 图谱 | 第55页 |
4.3.2 光催化剂的 DRS 分析 | 第55-58页 |
4.3.3 光催化剂的 XPS 和 EDS 分析 | 第58-60页 |
4.3.4 光催化剂的 TEM 分析 | 第60-61页 |
4.3.5 光催化剂的 PL 分析 | 第61-62页 |
4.3.6 光催化剂的 BET 分析 | 第62页 |
4.4 制备条件对 La/W/TiO_2光催化性能的影响 | 第62-71页 |
4.4.1 不同掺杂量的影响 | 第62-66页 |
4.4.2 不同煅烧温度的影响 | 第66-67页 |
4.4.3 不同煅烧时间的影响 | 第67-68页 |
4.4.4 不同 pH 的影响 | 第68-69页 |
4.4.5 溶液初始浓度的影响 | 第69-71页 |
4.5 催化剂的稳定性实验 | 第71页 |
4.6 最佳条件下,催化剂降解染料的紫外光谱分析 | 第71-72页 |
4.7 不同光催化剂的光催化性能比较 | 第72-75页 |
4.9 本章小结 | 第75-76页 |
第五章 结论 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-82页 |
致谢 | 第82页 |