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反熔丝型PROM编程特性与可靠性研究

摘要第3-4页
Abstract第4页
第一章绪论第8-14页
    1.1 研究背景及意义第8-11页
        1.1.1 非易失性存储器第8-10页
        1.1.2 反熔丝器件第10-11页
        1.1.3 反熔丝PROM第11页
    1.2 反熔丝PROM发展趋势第11-12页
    1.3 栅氧化层反熔丝PROM发展的关键问题和解决方案第12页
    1.4 主要工作和内容安排第12-14页
第二章栅氧化层反熔丝PROM存储单元研究和测试电路设计第14-24页
    2.1 栅氧化层反熔丝存储单元结构研究第14-18页
        2.1.1 传统 3T单元第14-15页
        2.1.2 2T2C单元第15-16页
        2.1.3 2T单元第16页
        2.1.4 1T单元第16-17页
        2.1.5 改进型 3T单元第17-18页
    2.2 栅氧化层反熔丝存储单元编程机理研究第18-21页
    2.3 测试电路设计第21-23页
        2.3.1 电路结构设计第21-22页
        2.3.2 测试电路中的存储单元版图设计第22-23页
        2.3.3 测试电路版图设计第23页
    2.4 本章小结第23-24页
第三章栅氧化层反熔丝存储单元编程特性研究第24-43页
    3.1 存储单元编程电压可行域研究第24-25页
        3.1.1 编程可行域实验方法第24-25页
        3.1.2 实验结果与分析第25页
        3.1.3 结论第25页
    3.2 存储单元基于编程电压的编程时间模型第25-30页
        3.2.1 编程时间实验方法和结果第26-27页
        3.2.2 编程时间模型建立第27-28页
        3.2.3 编程时间模型求解与验证第28-30页
        3.2.4 结论第30页
    3.3 已编程存储单元性能研究第30-34页
        3.3.1 存储单元编程后性能评估方法第31页
        3.3.2 存储单元编程后性能实验与性能评估第31-33页
        3.3.3 结论第33-34页
    3.4 已编程存储单元一致性研究第34-42页
        3.4.1 存储单元编程一致性评估方法第34页
        3.4.2 编程一致性实验方法与结果分析第34-36页
        3.4.3 已编程单元一致性评估第36-42页
        3.4.4 结论第42页
    3.5 本章小结第42-43页
第四章栅氧化层反熔丝存储单元可靠性研究第43-73页
    4.1 可靠性概述第43-44页
    4.2 可靠性评估方法第44-46页
        4.2.1 基于失效时间数据的可靠性评估方法第44-45页
        4.2.2 基于性能退化数据的可靠性评估方法第45-46页
    4.3 存储单元稳态寿命研究第46-49页
        4.3.1 存储单元稳态寿命实验方法第46-48页
        4.3.2 存储单元稳态寿命实验结果第48-49页
    4.4 存储单元加速寿命研究第49-50页
    4.5 存储单元基于性能参数退化的可靠性评估第50-62页
        4.5.1 基于性能参数退化的可靠性评估方法和执行步骤第50-52页
        4.5.2 栅氧化层反熔丝存储单元稳态寿命可靠性评估第52-61页
        4.5.3 结论第61-62页
    4.6 存储单元基于性能参数加速退化的可靠性评估第62-71页
        4.6.1 温度加速模型-Arrhenius模型简介第62页
        4.6.2 基于加速退化的可靠性评估方法与步骤第62-64页
        4.6.3 存储单元基于性能参数加速退化的可靠性评估第64-70页
        4.6.4 结论第70-71页
    4.7 其他可靠性问题第71页
    4.8 本章小结第71-73页
第五章结论与展望第73-75页
    5.1 工作总结第73-74页
    5.2 新的展望第74-75页
参考文献第75-78页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第78-79页
致谢第79-81页

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