| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 电化学分析方法 | 第9页 |
| 1.1.1 电催化的简述 | 第9页 |
| 1.2 石墨烯 | 第9-14页 |
| 1.2.1 石墨烯简介 | 第10-11页 |
| 1.2.2 石墨烯的主要制备方法及分类 | 第11-12页 |
| 1.2.3 石墨烯的性能 | 第12-13页 |
| 1.2.4 石墨烯的应用 | 第13-14页 |
| 1.3 聚硫堇 | 第14页 |
| 1.3.1 聚硫堇的简介 | 第14页 |
| 1.3.2 聚硫堇的性能 | 第14页 |
| 1.4 纳米材料 | 第14-15页 |
| 1.4.1 纳米材料的概述 | 第14页 |
| 1.4.2 金属纳米粒子及其基本效应 | 第14-15页 |
| 1.4.3 银纳米粒子的应用 | 第15页 |
| 1.5 化学修饰电极 | 第15-18页 |
| 1.5.1 化学修饰电极的概述 | 第15-16页 |
| 1.5.2 化学修饰电极的制备 | 第16页 |
| 1.5.3 键结能力较弱的修饰方式 | 第16-17页 |
| 1.5.4 键结能力较强的修饰方式 | 第17页 |
| 1.5.5 化学修饰电极的应用 | 第17-18页 |
| 1.6 青蒿素 | 第18-19页 |
| 1.6.1 青蒿素的简介 | 第18页 |
| 1.6.2 青蒿素在电极上的反应机理 | 第18-19页 |
| 1.6.3 青蒿素的检测方法 | 第19页 |
| 1.7 本课题的研究意义以及主要流程 | 第19-21页 |
| 2 实验部分 | 第21-27页 |
| 2.1 课题研究使用的仪器和试剂 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第21-22页 |
| 2.1.2 主要试剂 | 第22页 |
| 2.2 主要试剂的配制 | 第22-23页 |
| 2.3 实验步骤 | 第23-27页 |
| 2.3.1 氧化石墨（GO）的制备 | 第23-24页 |
| 2.3.2 电极的预处理 | 第24页 |
| 2.3.3 电极的活化 | 第24页 |
| 2.3.4 化学修饰电极的制备 | 第24-25页 |
| 2.3.5 石墨烯及修饰电极的表征 | 第25页 |
| 2.3.6 实验条件的选择 | 第25页 |
| 2.3.7 青蒿素含量的测定 | 第25-27页 |
| 3 结果与讨论 | 第27-43页 |
| 3.1 电极的活化及检测 | 第27-28页 |
| 3.1.1 电极的活化 | 第27页 |
| 3.1.2 电极的检测 | 第27-28页 |
| 3.2 修饰电极的表征 | 第28-35页 |
| 3.2.1 硫堇电聚合的表征 | 第28-29页 |
| 3.2.2 XRD表征石墨烯 | 第29-31页 |
| 3.2.3 FT-IR表征石墨烯 | 第31-32页 |
| 3.2.4 透射电子显微镜表征石墨烯 | 第32-33页 |
| 3.2.5 扫描电子显微镜和能量色散X射线（EDX）表征修饰电极 | 第33-34页 |
| 3.2.6 交流阻抗法表征修饰电极 | 第34页 |
| 3.2.7 循环伏安法表征修饰电极 | 第34-35页 |
| 3.3 实验条件的优化 | 第35-43页 |
| 3.3.1 硫堇电聚合的条件控制 | 第35-36页 |
| 3.3.2 氧化石墨滴涂量对青蒿素测定的影响 | 第36-37页 |
| 3.3.3 沉积时间和沉积电位对青蒿素测定的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.4 支持电解质及其pH值对青蒿素测定的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.5 扫描速率对青蒿素测定的影响 | 第39-40页 |
| 3.3.6 青蒿素的干扰实验 | 第40页 |
| 3.3.7 修饰电极的重现性和稳定性 | 第40页 |
| 3.3.8 青蒿素的分析性能 | 第40-42页 |
| 3.3.9 青蒿素含量的测定 | 第42-43页 |
| 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-48页 |
| 攻读硕士学位期间学术成果情况 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49页 |