摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 扫描探针加工 | 第11-18页 |
1.2.1 扫描探针加工技术的起源 | 第12页 |
1.2.2 扫描探针加工技术的主要特点 | 第12-13页 |
1.2.3 扫描探针加工方法 | 第13-18页 |
1.3 FPN技术的研究现状 | 第18-23页 |
1.3.1 FPN技术的最新研究进展 | 第18-21页 |
1.3.2 FPN技术的应用 | 第21-23页 |
1.3.3 FPN技术研究现状概述 | 第23页 |
1.4 本课题研究内容 | 第23-25页 |
1.4.1 课题内容 | 第23-24页 |
1.4.2 本文结构安排 | 第24-25页 |
1.5 本章小结 | 第25-26页 |
第二章FPN工作过程分析 | 第26-35页 |
2.1 FPN力学分析 | 第26-29页 |
2.1.1 毛细力和液桥 | 第26-27页 |
2.1.2 毛细力的机理分析 | 第27-29页 |
2.2 FPN书写过程分析 | 第29-33页 |
2.2.1 针尖与基底间液桥的形成 | 第30-31页 |
2.2.2 墨水分子在液桥中的传输 | 第31-32页 |
2.2.3 墨水分子在基底的扩散 | 第32-33页 |
2.3 针尖和基底接触的作用力建模 | 第33-34页 |
2.4 本章小结 | 第34-35页 |
第三章FPN书写实验 | 第35-56页 |
3.1 实验材料及设备 | 第35-41页 |
3.1.1 基底 | 第35页 |
3.1.2 墨水及探针 | 第35-36页 |
3.1.3 Multiview1000 型原子力显微镜AFM | 第36-40页 |
3.1.4 图像处理软件WSXM | 第40-41页 |
3.2 实验过程和结果分析 | 第41-54页 |
3.2.1 书写过程的AFM设置 | 第41-42页 |
3.2.2 点结构的书写 | 第42-44页 |
3.2.3 线结构的书写 | 第44-49页 |
3.2.4 电压控制下的FPN书写 | 第49-53页 |
3.2.5 图案的书写 | 第53-54页 |
3.3 本章小结 | 第54-56页 |
第四章 基于FPN书写线结构的电学性能研究 | 第56-65页 |
4.1 二探针和四探针法测电阻率 | 第56-58页 |
4.1.1 电阻率的定义 | 第56页 |
4.1.2 二探针法和四探针法 | 第56-58页 |
4.2 实验材料及设备 | 第58-60页 |
4.3 实验方案及结果分析 | 第60-64页 |
4.3.1 云母基底上线结构的书写及表征 | 第60-61页 |
4.3.2 二探针法测电阻率 | 第61-62页 |
4.3.3 四探针法测电阻率 | 第62-64页 |
4.4 本章小结 | 第64-65页 |
第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
5.1 总结 | 第65-66页 |
5.2 展望 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-74页 |
附录 | 第74-77页 |
攻读学位期间公开发表的论文及科研成果 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |