致谢 | 第5-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
符号说明 | 第13-14页 |
第一章 绪论 | 第14-27页 |
1.1 引言 | 第14-15页 |
1.2 光催化概述 | 第15-16页 |
1.2.1 光催化应用 | 第15-16页 |
1.3 影响光催化剂性能的因素 | 第16-20页 |
1.3.1 能带结构 | 第16-17页 |
1.3.2 晶体结构 | 第17页 |
1.3.3 表面性质 | 第17-18页 |
1.3.4 光催化体系外在反应条件的影响 | 第18页 |
1.3.5 光催化还原CO_2的机理 | 第18-20页 |
1.4 石墨相氮化碳研究现状 | 第20-22页 |
1.4.1 g-C_3N_4的研究背景 | 第20页 |
1.4.2 g-C_3N_4的结构和制备 | 第20-22页 |
1.5 g-C_3N_4光催化剂的性能优化 | 第22-25页 |
1.5.1 形貌调控 | 第23页 |
1.5.2 化学掺杂改性 | 第23-25页 |
1.5.3 半导体复合 | 第25页 |
1.6 本论文的选题意义与内容 | 第25-27页 |
1.6.1 选题意义 | 第25-26页 |
1.6.2 研究内容 | 第26-27页 |
第二章 实验部分 | 第27-38页 |
2.1 实验材料与设备 | 第27-29页 |
2.1.1 实验药品 | 第27页 |
2.1.2 实验仪器与设备 | 第27-29页 |
2.2 催化剂制备 | 第29-30页 |
2.2.1 U-C_3N_4的制备 | 第29页 |
2.2.2 片形U-C_3N_4制备 | 第29页 |
2.2.3 六棱柱形U-C_3N_4制备 | 第29-30页 |
2.3 催化剂表征 | 第30-32页 |
2.3.1 X射线衍射 | 第30页 |
2.3.2 X射线光电子能谱 | 第30页 |
2.3.3 场发射扫描电子显微镜 | 第30页 |
2.3.4 透射电子显微镜 | 第30-31页 |
2.3.5 比表面积测试 | 第31页 |
2.3.6 紫外-可见漫反射 | 第31页 |
2.3.7 傅里叶变换显微红外光谱 | 第31页 |
2.3.8 透射电子显微镜 | 第31页 |
2.3.9 电化学表征 | 第31-32页 |
2.4 实验装置 | 第32-35页 |
2.4.1 反应装置 | 第32-34页 |
2.4.2 光源 | 第34-35页 |
2.5 光催化还原CO_2实验 | 第35页 |
2.6 分析方法 | 第35-38页 |
2.6.1 CO | 第35页 |
2.6.2 CH_4 | 第35页 |
2.6.3 CH_3OH | 第35-36页 |
2.6.4 O_2/N_2比检测 | 第36页 |
2.6.5 催化剂转换数、能量产出投入比和量子产率的确定 | 第36-38页 |
第三章 硫酸处理超声剥离的片形U-C_3N_4可见光催化还原CO_2 | 第38-51页 |
3.1 光催化剂的物化特性分析 | 第38-45页 |
3.1.1 XRD分析 | 第38-39页 |
3.1.2 UV-Vis DRS表征 | 第39-40页 |
3.1.3 FESEM和TEM分析 | 第40-41页 |
3.1.4 红外光谱分析 | 第41-42页 |
3.1.5 XPS分析 | 第42-45页 |
3.2 光催化还原CO_2及机理分析 | 第45-49页 |
3.2.1 光催化还原CO_2的活性评价 | 第45-47页 |
3.2.2 反应机理探讨 | 第47-49页 |
3.2.3 光稳定性评估 | 第49页 |
3.3 本章小结 | 第49-51页 |
第四章 碱水热处理的六棱柱形U-C_3N_4可见光催化还原CO_2 | 第51-68页 |
4.1 光催化剂的物化特性研究 | 第51-60页 |
4.1.1 XRD分析 | 第51-52页 |
4.1.2 UV-Vis-DRS表征 | 第52-54页 |
4.1.3 FESEM和TEM分析 | 第54-55页 |
4.1.4 红外光谱分析 | 第55-56页 |
4.1.5 XPS分析 | 第56-58页 |
4.1.6 i-t曲线 | 第58-60页 |
4.2 生长机理 | 第60-61页 |
4.3 光催化活性及稳定性 | 第61-66页 |
4.4 本章小结 | 第66-68页 |
第五章 结论 | 第68-70页 |
5.1 结论 | 第68-69页 |
5.2 展望 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-79页 |
作者简介 | 第79-80页 |
学位论文数据集 | 第80页 |