| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 研究现状 | 第9-11页 |
| 1.2.1 非球面加工技术的研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 滤光膜的研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3 课题研究的主要内容 | 第11-12页 |
| 第二章 数控非球面加工与光学薄膜的理论基础 | 第12-21页 |
| 2.1 非球面基础知识 | 第12-14页 |
| 2.1.1 非球面分类 | 第12页 |
| 2.1.2 非球面方程 | 第12-13页 |
| 2.1.3 最佳比较球面与最大非球面度 | 第13-14页 |
| 2.2 CCOS技术的理论基础 | 第14-16页 |
| 2.2.1 CCOS技术的基础理论方程 | 第14-15页 |
| 2.2.2 去除函数的推导 | 第15页 |
| 2.2.3 驻留函数的计算 | 第15-16页 |
| 2.3 光学薄膜的基础理论 | 第16-21页 |
| 2.3.1 对称膜系的等效层 | 第17-19页 |
| 2.3.2 高反射膜堆反射带宽的展宽 | 第19-21页 |
| 第三章 非球面H-FK61光学玻璃元件的制备与检测 | 第21-37页 |
| 3.1 非球面H-FK61光学玻璃的研抛工艺研究 | 第21-28页 |
| 3.1.1 铣磨过程工艺参数研究 | 第21-23页 |
| 3.1.2 抛光过程及其工艺参数研究 | 第23-28页 |
| 3.2 非球面H-FK61光学玻璃元件面形检测技术 | 第28-30页 |
| 3.3 Φ76mm非球面H-FK61光学玻璃元件的加工与检测 | 第30-36页 |
| 3.3.1 非球面H-FK61光学玻璃元件的参数要求 | 第31页 |
| 3.3.2 DIFFSYS Version软件的模拟仿真 | 第31-32页 |
| 3.3.3 非球面的数控铣磨成型 | 第32-33页 |
| 3.3.4 非球面的抛光工艺 | 第33-36页 |
| 3.4 测试结果分析 | 第36-37页 |
| 第四章 干涉截止滤光膜的研制 | 第37-48页 |
| 4.1 薄膜材料的选择 | 第37-38页 |
| 4.2 膜系设计 | 第38-39页 |
| 4.3 干涉截止滤光膜的制备 | 第39-42页 |
| 4.3.1 薄膜沉积设备 | 第39-41页 |
| 4.3.2 工艺参数的确定 | 第41页 |
| 4.3.3 干涉截止滤光膜制备的工艺流程 | 第41-42页 |
| 4.4 干涉截止滤光膜的光谱测试与分析 | 第42-48页 |
| 4.4.1 光谱性能测试与分析 | 第42-46页 |
| 4.4.2 环境测试 | 第46-48页 |
| 第五章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 5.1 总结 | 第48-49页 |
| 5.2 展望 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
