| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| CONTENTS | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-27页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第14-17页 |
| 1.1.1 金属植入材料简介 | 第14-15页 |
| 1.1.2 钛基骨植入材料及其应用 | 第15-16页 |
| 1.1.3 钛基骨植入材料的表面改性 | 第16-17页 |
| 1.2 材料表面功能化改性 | 第17-20页 |
| 1.2.1 表面功能化改性方法 | 第17-20页 |
| 1.2.2 表面功能化改性意义 | 第20页 |
| 1.3 钛表面制备钙磷涂层 | 第20-25页 |
| 1.3.1 钙磷涂层简介 | 第20-21页 |
| 1.3.2 钙磷涂层的制备方法 | 第21-24页 |
| 1.3.3 改性钛表面电化学沉积方法制备钙磷涂层 | 第24-25页 |
| 1.4 本课题研究意义及内容 | 第25-27页 |
| 1.4.1 本课题研究意义与目的 | 第25-26页 |
| 1.4.2 本课题研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 OTS功能化钛表面电化学沉积钙磷涂层的工艺研究 | 第27-39页 |
| 2.1 前言 | 第27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-31页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器 | 第27-29页 |
| 2.2.2 样品制备 | 第29-30页 |
| 2.2.3 样品表征方法 | 第30-31页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第31-38页 |
| 2.3.1 OTS自组装膜层浓度对电化学沉积钙磷涂层的影响 | 第31-32页 |
| 2.3.2 电解液pH值对电化学沉积钙磷涂层影响 | 第32-33页 |
| 2.3.3 电解液温度对电化学沉积钙磷涂层影响 | 第33-34页 |
| 2.3.4 电流密度对电化学沉积钙磷涂层影响 | 第34-35页 |
| 2.3.5 沉积时间对电化学沉积钙磷涂层影响 | 第35-36页 |
| 2.3.6 OTS功能化钛表面电化学沉积钙磷涂层机理分析 | 第36-38页 |
| 2.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 OTS功能化钛表面亲疏水性对电化学沉积钙磷涂层的影响 | 第39-49页 |
| 3.1 前言 | 第39页 |
| 3.2 实验部分 | 第39-42页 |
| 3.2.1 实验试剂与仪器 | 第39-41页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第41页 |
| 3.2.3 样品表征方法 | 第41-42页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第42-48页 |
| 3.3.1 钛表面OTS成膜前后的傅里叶红外表征 | 第42-43页 |
| 3.3.2 钛表面亲疏水性及表面能分析 | 第43-44页 |
| 3.3.3 钛表面沉积钙磷涂层的SEM及EDS面扫描分析 | 第44-46页 |
| 3.3.4 电化学沉积钙磷涂层的XRD表征 | 第46-47页 |
| 3.3.5 钛表面OTS功能膜层和钙磷涂层的构建机制 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 钛表面功能基团对电化学沉积钙磷涂层的影响 | 第49-66页 |
| 4.1 前言 | 第49页 |
| 4.2 实验部分 | 第49-53页 |
| 4.2.1 实验试剂与仪器 | 第49-51页 |
| 4.2.2 样品制备 | 第51页 |
| 4.2.3 样品表征方法 | 第51-52页 |
| 4.2.4 细胞相容性 | 第52-53页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第53-65页 |
| 4.3.1 自组装硅烷偶联剂的ATR-FTIR分析 | 第53-54页 |
| 4.3.2 钛表面功能膜层的接触角及表面能分析 | 第54-56页 |
| 4.3.3 功能膜层表面电势分析 | 第56页 |
| 4.3.4 功能基团对钙磷涂层形貌及元素影响分析 | 第56-58页 |
| 4.3.5 钙磷涂层表面元素分析 | 第58-60页 |
| 4.3.6 功能基团对钙磷涂层晶型与结构影响分析 | 第60-62页 |
| 4.3.7 钛表面功能基团对钙磷涂层成核机理分析 | 第62-63页 |
| 4.3.8 细胞粘附形貌分析 | 第63-64页 |
| 4.3.9 细胞增殖活力检测 | 第64-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-68页 |
| 5.1 结论 | 第66-67页 |
| 5.2 展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
