| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-39页 |
| 1.1 纳米光子学概述 | 第12-13页 |
| 1.2 表面等离激元学概述 | 第13-29页 |
| 1.2.1 金属表面等离激元的特性 | 第13-16页 |
| 1.2.2 表面等离激元的应用 | 第16-29页 |
| 1.3 金属纳米结构的制备技术 | 第29-31页 |
| 1.4 本论文的研究内容、目的和意义 | 第31-34页 |
| 参考文献 | 第34-39页 |
| 第二章 表面等离激元透镜的色散调控 | 第39-55页 |
| 2.1 引言 | 第39-40页 |
| 2.2 表面等离激元透镜的工作原理 | 第40-44页 |
| 2.2.1 金属-介质-金属表面等离激元波导 | 第40-42页 |
| 2.2.2 表面等离激元透镜的有效折射率 | 第42-44页 |
| 2.3 表面等离激元透镜的色散调控 | 第44-49页 |
| 2.3.1 色散补偿 | 第44-47页 |
| 2.3.2 色散设计 | 第47-49页 |
| 2.4 复合表面等离激元透镜的实用性讨论 | 第49-52页 |
| 2.4.1 复合表面等离激元透镜的工作效率 | 第49-51页 |
| 2.4.2 复合表面等离激元透镜的制备 | 第51-52页 |
| 2.5 小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第三章 双曲透镜的三维亚波长成像和光刻 | 第55-76页 |
| 3.1 引言 | 第55页 |
| 3.2 双曲透镜三维亚波长成像 | 第55-66页 |
| 3.2.1 双曲型色散和等效介质理论 | 第55-59页 |
| 3.2.2 双曲透镜三维亚波长成像 | 第59-66页 |
| 3.3 双曲透镜三维亚波长光刻 | 第66-71页 |
| 3.4 双曲透镜加工与制作 | 第71-74页 |
| 3.5 小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-76页 |
| 第四章 金属单颗粒中的Fano共振和超散射 | 第76-102页 |
| 4.1 引言 | 第76-77页 |
| 4.2 单个银纳米盘中的Fano共振和超散射 | 第77-82页 |
| 4.2.1 计算模型和方法 | 第77页 |
| 4.2.2 辐射的偶极子模式和非辐射的四极子模式 | 第77-79页 |
| 4.2.3 偶极子模式和四极子模式之间的耦合 | 第79-82页 |
| 4.3 双驱动耦合谐振子模型 | 第82-85页 |
| 4.4 从Fano型表面等离激元共振到超散射 | 第85-90页 |
| 4.5 超散射纳米盘的应用 | 第90-91页 |
| 4.6 金属纳米孔阵列中的Fano型共振和超吸收 | 第91-94页 |
| 4.7 纳米盘的制备和表征 | 第94-98页 |
| 4.7.1 纳米盘的制备 | 第94-96页 |
| 4.7.2 光学表征 | 第96-98页 |
| 4.8 小结 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-102页 |
| 第五章 金属-介质异质结构的制备—平面自对准纳米压印技术 | 第102-119页 |
| 5.1 引言 | 第102-104页 |
| 5.1.1 纳米压印技术的优点 | 第102-103页 |
| 5.1.2 纳米压印技术的挑战 | 第103-104页 |
| 5.2 平面自对准压印技术工艺流程 | 第104-105页 |
| 5.3 平面自对准压印技术实验步骤及参数 | 第105-111页 |
| 5.3.1 压印模板的制备和热塑性纳米压印 | 第105-107页 |
| 5.3.2 刻蚀参数的选择 | 第107-108页 |
| 5.3.3 二次旋涂胶体平整化 | 第108-110页 |
| 5.3.4 实验结果和讨论 | 第110-111页 |
| 5.4 平面自对准压印技术的拓展应用 | 第111-116页 |
| 5.4.1 多种平面材料制备流程 | 第111-112页 |
| 5.4.2 多梯度的模板制备和深度纳米压印 | 第112-116页 |
| 5.5 小结 | 第116-117页 |
| 参考文献 | 第117-119页 |
| 第六章 结论和展望 | 第119-122页 |
| 攻读博士学位期间发表和待发表的论文和专利 | 第122-124页 |
| 致谢 | 第124-126页 |