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铁表面构建烷氧基硅烷超疏水涂层及其耐蚀性能研究

摘要第7-9页
ABSTRACT第9-10页
符号说明第11-12页
第一章 绪论第12-32页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 化学转化膜简介第13-16页
        1.2.1 磷酸盐转化膜第13-14页
        1.2.2 铬酸盐钝化膜第14页
        1.2.3 磷酸酯第14-15页
        1.2.4 超疏水现象第15-16页
    1.3 超疏水润湿理论第16-19页
        1.3.1 粗糙表面的Wenzel模型和Cassie模型第16-18页
        1.3.2 滚动角理论第18-19页
    1.4 超疏水制备技术第19-23页
        1.4.1 阳极氧化法第19页
        1.4.2 化学刻蚀法第19-20页
        1.4.3 电化学沉积法第20页
        1.4.4 气相沉积法第20-21页
        1.4.5 溶胶-凝胶法第21-22页
        1.4.6 水热法第22-23页
    1.5 超疏水涂层在金属腐蚀防护方面的应用第23-25页
    1.6 论文的选题目的及研究内容第25-26页
    参考文献第26-32页
第二章 实验材料及制备方法第32-40页
    2.1 化学试剂第32-33页
    2.2 样品制备第33-35页
        2.2.1 铁片样品的预处理第33页
        2.2.2 化学刻蚀液的配置第33页
        2.2.3 正辛基三乙氧基硅烷水解液的制备第33-34页
        2.2.4 二氧化硅溶胶的制备第34页
        2.2.5 改性二氧化硅的制备第34-35页
        2.2.6 十八烷基三甲氧基硅烷水解液的制备第35页
    2.3 铁片上微纳米粗糙结构的构建第35页
        2.3.1 刻蚀法制备的微纳米粗糙结构第35页
        2.3.2 电沉积氧化锌制备的粗糙结构第35页
    2.4 超疏水涂层的制备方法第35-36页
    2.5 性能表征方法第36-40页
        2.5.1 电化学测试方法第36-38页
            2.5.1.1 电化学阻抗谱测试方法第36-37页
            2.5.1.2 稳态极化曲线测试方法第37-38页
        2.5.2 表面成分和结构分析第38-40页
            2.5.2.1 红外光谱分析第38页
            2.5.2.2 扫描电子显微镜第38页
            2.5.2.3 原子力显微镜第38页
            2.5.2.4 X-射线光电子能谱(XPS)第38页
            2.5.2.5 润湿性能测试第38-40页
第三章 化学刻蚀法在铁基底表面制备超疏水涂层第40-52页
    3.1 引言第40页
    3.2 实验内容和实验方法第40-41页
    3.3 结果与讨论第41-48页
        3.3.1 扫描电子显微镜和原子力显微镜表征第41-42页
        3.3.2 红外谱图以及X-射线光电子能谱表征第42-44页
        3.3.3 OTES添加量对涂层疏水性的影响第44-45页
        3.3.4 交流阻抗谱图和稳态极化曲线表征第45-48页
    3.4 本章小结第48页
    参考文献第48-52页
第四章 电沉积法在铁基底表面制备超疏水涂层第52-66页
    4.1 引言第52页
    4.2 实验内容和方法第52-53页
    4.3 实验结果与讨论第53-61页
        4.3.1 二氧化硅和改性二氧化硅的示意图以及透射电子显微镜表征第53页
        4.3.2 二氧化硅和改性二氧化硅的红外光谱和热重第53-54页
        4.3.3 扫描电子显微镜第54-55页
        4.3.4 X-射线光电子能谱第55-57页
        4.3.5 极化曲线和交流阻抗谱图第57-60页
        4.3.6 超疏水涂层稳定性探究第60-61页
        4.3.7 超疏水防腐机理第61页
    4.4 本章小结第61-62页
    参考文献第62-66页
本文的主要结论第66-67页
本论文的创新点第67-68页
致谢第68-70页
攻读硕士学位期间取得的科研成果第70-71页
附录第71-80页
学位论文评阅及答辩情况表第80页

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