摘要 | 第7-9页 |
ABSTRACT | 第9-10页 |
符号说明 | 第11-12页 |
第一章 绪论 | 第12-32页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 化学转化膜简介 | 第13-16页 |
1.2.1 磷酸盐转化膜 | 第13-14页 |
1.2.2 铬酸盐钝化膜 | 第14页 |
1.2.3 磷酸酯 | 第14-15页 |
1.2.4 超疏水现象 | 第15-16页 |
1.3 超疏水润湿理论 | 第16-19页 |
1.3.1 粗糙表面的Wenzel模型和Cassie模型 | 第16-18页 |
1.3.2 滚动角理论 | 第18-19页 |
1.4 超疏水制备技术 | 第19-23页 |
1.4.1 阳极氧化法 | 第19页 |
1.4.2 化学刻蚀法 | 第19-20页 |
1.4.3 电化学沉积法 | 第20页 |
1.4.4 气相沉积法 | 第20-21页 |
1.4.5 溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
1.4.6 水热法 | 第22-23页 |
1.5 超疏水涂层在金属腐蚀防护方面的应用 | 第23-25页 |
1.6 论文的选题目的及研究内容 | 第25-26页 |
参考文献 | 第26-32页 |
第二章 实验材料及制备方法 | 第32-40页 |
2.1 化学试剂 | 第32-33页 |
2.2 样品制备 | 第33-35页 |
2.2.1 铁片样品的预处理 | 第33页 |
2.2.2 化学刻蚀液的配置 | 第33页 |
2.2.3 正辛基三乙氧基硅烷水解液的制备 | 第33-34页 |
2.2.4 二氧化硅溶胶的制备 | 第34页 |
2.2.5 改性二氧化硅的制备 | 第34-35页 |
2.2.6 十八烷基三甲氧基硅烷水解液的制备 | 第35页 |
2.3 铁片上微纳米粗糙结构的构建 | 第35页 |
2.3.1 刻蚀法制备的微纳米粗糙结构 | 第35页 |
2.3.2 电沉积氧化锌制备的粗糙结构 | 第35页 |
2.4 超疏水涂层的制备方法 | 第35-36页 |
2.5 性能表征方法 | 第36-40页 |
2.5.1 电化学测试方法 | 第36-38页 |
2.5.1.1 电化学阻抗谱测试方法 | 第36-37页 |
2.5.1.2 稳态极化曲线测试方法 | 第37-38页 |
2.5.2 表面成分和结构分析 | 第38-40页 |
2.5.2.1 红外光谱分析 | 第38页 |
2.5.2.2 扫描电子显微镜 | 第38页 |
2.5.2.3 原子力显微镜 | 第38页 |
2.5.2.4 X-射线光电子能谱(XPS) | 第38页 |
2.5.2.5 润湿性能测试 | 第38-40页 |
第三章 化学刻蚀法在铁基底表面制备超疏水涂层 | 第40-52页 |
3.1 引言 | 第40页 |
3.2 实验内容和实验方法 | 第40-41页 |
3.3 结果与讨论 | 第41-48页 |
3.3.1 扫描电子显微镜和原子力显微镜表征 | 第41-42页 |
3.3.2 红外谱图以及X-射线光电子能谱表征 | 第42-44页 |
3.3.3 OTES添加量对涂层疏水性的影响 | 第44-45页 |
3.3.4 交流阻抗谱图和稳态极化曲线表征 | 第45-48页 |
3.4 本章小结 | 第48页 |
参考文献 | 第48-52页 |
第四章 电沉积法在铁基底表面制备超疏水涂层 | 第52-66页 |
4.1 引言 | 第52页 |
4.2 实验内容和方法 | 第52-53页 |
4.3 实验结果与讨论 | 第53-61页 |
4.3.1 二氧化硅和改性二氧化硅的示意图以及透射电子显微镜表征 | 第53页 |
4.3.2 二氧化硅和改性二氧化硅的红外光谱和热重 | 第53-54页 |
4.3.3 扫描电子显微镜 | 第54-55页 |
4.3.4 X-射线光电子能谱 | 第55-57页 |
4.3.5 极化曲线和交流阻抗谱图 | 第57-60页 |
4.3.6 超疏水涂层稳定性探究 | 第60-61页 |
4.3.7 超疏水防腐机理 | 第61页 |
4.4 本章小结 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
本文的主要结论 | 第66-67页 |
本论文的创新点 | 第67-68页 |
致谢 | 第68-70页 |
攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第70-71页 |
附录 | 第71-80页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第80页 |