| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 论文研究背景 | 第11-15页 |
| 1.2 微弧氧化技术概述 | 第15-21页 |
| 1.2.1 微弧氧化技术及其性能特点 | 第16页 |
| 1.2.2 浸入式微弧氧化的发展及研究现状 | 第16-17页 |
| 1.2.3 扫描式微弧氧化的发展及研究现状 | 第17-20页 |
| 1.2.4 微弧氧化技术的应用 | 第20-21页 |
| 1.3 微弧氧化模拟的研究现状 | 第21-23页 |
| 1.3.1 微弧氧化模拟存在的问题 | 第22-23页 |
| 1.4 论文的总体框架及主要研究内容 | 第23-27页 |
| 2 AlSi7Mg0.3铝合金扫描式微弧氧化试验方案 | 第27-38页 |
| 2.1 试验设备及方法 | 第27-31页 |
| 2.1.1 扫描式微弧氧化试验装置 | 第27-29页 |
| 2.1.2 性能测试方法 | 第29-31页 |
| 2.2 试验方案设计 | 第31-33页 |
| 2.2.1 试验材料 | 第31-32页 |
| 2.2.2 试验过程及工艺参数 | 第32-33页 |
| 2.3 前期工艺参数影响规律试验研究 | 第33-37页 |
| 2.3.1 电流密度与陶瓷层厚度 | 第33-34页 |
| 2.3.2 频率与陶瓷层厚度 | 第34-35页 |
| 2.3.3 扫描速度与陶瓷层厚度 | 第35-36页 |
| 2.3.4 正电压、阴阳间距离与陶瓷层厚度 | 第36-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 3 扫描式微弧氧化模拟建模及分析 | 第38-51页 |
| 3.1 扫描式微弧氧化模拟研究方案 | 第38-39页 |
| 3.2 热源模型的分析与建立 | 第39-41页 |
| 3.3 有限元模型建立 | 第41-44页 |
| 3.4 基于扫描式微弧氧化模拟仿真的工艺参数方案优化 | 第44-50页 |
| 3.4.1 工艺参数影响正交试验的因素与水平选择 | 第44-45页 |
| 3.4.2 工艺参数组合的优选 | 第45-50页 |
| 3.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 4 AlSi7Mg0.3铝合金扫描式微弧氧化陶瓷层性能测试 | 第51-59页 |
| 4.1 表面形貌与截面形貌分析 | 第51-54页 |
| 4.2 拉伸强度性能测试 | 第54-56页 |
| 4.2.1 陶瓷层拉伸强度及断口形貌 | 第54-56页 |
| 4.3 绝缘强度测试 | 第56-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 5 AlSi7Mg0.3铝合金扫描式微弧氧化陶瓷层耐腐蚀性能 | 第59-73页 |
| 5.1 扫描道次与陶瓷层厚度 | 第59-60页 |
| 5.2 相成分分析 | 第60-61页 |
| 5.3 陶瓷层形貌分析 | 第61-62页 |
| 5.4 不同扫描道次的陶瓷层极化曲线研究 | 第62-64页 |
| 5.5 酸性盐溶液周浸腐蚀性能 | 第64-71页 |
| 5.5.1 腐蚀失重分析 | 第65-66页 |
| 5.5.2 酸性盐溶液周浸腐蚀试验对扫描式微弧氧化试样的表面及断面形貌的影响 | 第66-70页 |
| 5.5.3 酸性盐溶液周浸腐蚀试验对扫描式微弧氧化试样表面成分的影响 | 第70-71页 |
| 5.6 本章小结 | 第71-73页 |
| 6 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-83页 |
| 学位论文数据集 | 第83页 |
