| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 前言 | 第12页 |
| 1.2 金刚石的晶体结构 | 第12-14页 |
| 1.3 金刚石的性能及应用前景 | 第14-18页 |
| 1.3.1 力学方面应用 | 第14-15页 |
| 1.3.2 光学方面应用 | 第15-16页 |
| 1.3.3 电子方面应用 | 第16-17页 |
| 1.3.4 声学方面应用 | 第17页 |
| 1.3.5 其它领域应用 | 第17-18页 |
| 1.4 微波等离子体CVD生长金刚石 | 第18-29页 |
| 1.4.1 CVD生长金刚石的过程 | 第18-20页 |
| 1.4.2 微波等离子体CVD技术发展概况 | 第20-25页 |
| 1.4.3 CVD单晶金刚石最近研究进展回顾 | 第25-29页 |
| 1.5 选题的主要意义及研究内容 | 第29-32页 |
| 第2章 实验装置及检测手段 | 第32-39页 |
| 2.1 实验装置 | 第32-34页 |
| 2.2 检测手段 | 第34-39页 |
| 2.2.1 等离子体发射光谱 | 第35-36页 |
| 2.2.2 激光拉曼光谱 | 第36-37页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜 | 第37页 |
| 2.2.4 X射线双晶摇摆曲线 | 第37-39页 |
| 第3章 （100）晶面同质外延单晶金刚石的研究 | 第39-53页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 单晶衬底预处理 | 第39-42页 |
| 3.2.1 单晶衬底准备 | 第39-40页 |
| 3.2.2 单晶衬底H2/O2等离子体刻蚀分析 | 第40-42页 |
| 3.3 生长参数对等离子体发射光谱和金刚石生长的影响 | 第42-48页 |
| 3.3.1 衬底温度的影响 | 第42-44页 |
| 3.3.2 甲烷浓度的影响 | 第44-46页 |
| 3.3.3 沉积气压的影响 | 第46-48页 |
| 3.4 种晶对同质外延单晶金刚石的影响 | 第48-50页 |
| 3.5 高质量单晶金刚石生长实例 | 第50-51页 |
| 3.6 本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 （110）晶面同质外延单晶金刚石的研究 | 第53-59页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 单晶衬底H2/O2等离子体刻蚀分析 | 第53-54页 |
| 4.3 （110）和（100）晶面同质外延单晶金刚石比较 | 第54-55页 |
| 4.4 （110）晶面同质外延的单晶金刚石形貌和质量分析 | 第55-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 （111）晶面同质外延单晶金刚石的研究 | 第59-69页 |
| 5.1 引言 | 第59-60页 |
| 5.2 单晶衬底H2/O2等离子体刻蚀分析 | 第60-61页 |
| 5.3 衬底温度和甲烷浓度对同质外延单晶金刚石的影响 | 第61-65页 |
| 5.4 倾斜抛光衬底对同质外延单晶金刚石的影响 | 第65-67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-69页 |
| 第6章 全文总结和展望 | 第69-73页 |
| 6.1 论文总结 | 第69-71页 |
| 6.2 论文展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
