金刚石真空窗口的制备
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 金刚石的晶体结构 | 第10-11页 |
| 1.2 金刚石的性质及应用 | 第11-14页 |
| 1.2.1 机械性能及应用 | 第11-12页 |
| 1.2.2 光学性能及应用 | 第12-13页 |
| 1.2.3 热学性能及应用 | 第13-14页 |
| 1.2.4 电学性能及应用 | 第14页 |
| 1.3 金刚石膜的制备 | 第14-19页 |
| 1.3.1 CVD金刚石膜的生长机理 | 第15-16页 |
| 1.3.2 金刚石膜的制备方法 | 第16-19页 |
| 1.4 本课题的研究内容 | 第19-22页 |
| 第2章 实验装置 | 第22-34页 |
| 2.1 实验装置 | 第22-29页 |
| 2.1.1 微波等离子体化学气相沉积装置 | 第22-26页 |
| 2.1.2 等离子体发射光谱仪 | 第26-27页 |
| 2.1.3 微波等离子体焊接装置 | 第27-29页 |
| 2.2 金刚石膜的表征 | 第29-34页 |
| 2.2.1 拉曼光谱（Raman） | 第29-30页 |
| 2.2.2 原子力显微镜（AFM） | 第30-31页 |
| 2.2.3 X衍射分析（XRD） | 第31页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜（SEM） | 第31-32页 |
| 2.2.5 漏气率测量 | 第32-34页 |
| 第3章 金刚石膜的制备 | 第34-56页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 衬底表面处理对形核密度的影响 | 第34-37页 |
| 3.3 乙醇与氢气等离子体发射光谱分析 | 第37-46页 |
| 3.3.1 乙醇与氢气等离子体中基团的空间分布 | 第39-41页 |
| 3.3.2 乙醇体积分数对等离子体中基团的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.3 工作气压对等离子体中基团的影响 | 第43-46页 |
| 3.4 沉积工艺对金刚石膜的影响 | 第46-54页 |
| 3.4.1 乙醇体积分数对金刚石膜的影响 | 第46-50页 |
| 3.4.2 工作气压对金刚石膜的影响 | 第50-52页 |
| 3.4.3 衬底温度对金刚石膜的影响 | 第52-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 金刚石真空窗口的制备 | 第56-76页 |
| 4.1 引言 | 第56-57页 |
| 4.2 纳米金刚石自支撑膜的制备 | 第57-63页 |
| 4.2.1 纳米金刚石膜的表征 | 第58-60页 |
| 4.2.2 自支撑纳米金刚石膜的漏气率 | 第60-63页 |
| 4.3 自支撑纳米金刚石膜与金属法兰的焊接 | 第63-73页 |
| 4.3.1 温度曲线的控制 | 第63-65页 |
| 4.3.2 焊料和金属法兰材质的选取与性质摸底 | 第65-67页 |
| 4.3.3 金刚石真空窗口钎焊的工艺流程设计 | 第67-70页 |
| 4.3.4 工艺结果总结 | 第70-73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-76页 |
| 第5章 论文结论与展望 | 第76-78页 |
| 5.1 论文总结 | 第76-77页 |
| 5.2 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 硕士期间发表的论文及专利 | 第84-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
