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介质阻挡辉光放电的结构及其形成机理

摘要第1-6页
Abstract第6-11页
第1章 绪论第11-19页
   ·本论文研究的目的和意义第11-12页
   ·介质阻挡放电第12-14页
   ·介质阻挡辉光放电第14-18页
   ·本论文主要内容第18-19页
第2章 实验方法及理论模型第19-35页
   ·实验方法第19-21页
   ·数值模拟方法第21-33页
     ·基本方程第22-24页
     ·离散方案和计算流程第24-28页
     ·方程离散及边界处理第28-32页
     ·离散方程组求解第32-33页
   ·本章小结第33-35页
第3章 辉光 DBD 的放电结构第35-47页
   ·辉光 DBD 的一般结构第35-36页
   ·影响辉光 DBD 放电结构的因素第36-45页
     ·占空比的影响第36-37页
     ·驱动频率的影响第37-39页
     ·气压的影响第39-44页
     ·磁场的影响第44-45页
   ·本章小结第45-47页
第4章 辉光 DBD 的发展过程第47-65页
   ·均匀 DBD第47-56页
     ·圆电极均匀 DBD 的发展过程第47-50页
     ·均匀放电过程的模拟第50-54页
     ·正方形电极均匀 DBD第54-56页
   ·对称环状结构 DBD第56-62页
     ·环状斑图放电的发展过程第56-58页
     ·环状斑图放电发展过程的模拟第58-62页
   ·非对称斑图结构第62-64页
   ·本章小结第64-65页
第5章 影响介质阻挡辉光放电结构的关键因素第65-100页
   ·非均匀空间电荷的增强 -抑制效应第65-77页
     ·非均匀初始空间电荷下的放电发展过程第65-70页
     ·空间电子密度分布的发展第70-73页
     ·扰动强度对增强 -抑制效应的影响第73-75页
     ·电压对增强 -抑制效应的影响第75-77页
   ·非均匀表面电荷的增强 -抑制效应第77-86页
     ·非均匀初始表面电荷下的放电发展过程第77-80页
     ·空间电子密度分布的发展第80-82页
     ·扰动强度对增强 -抑制效应的影响第82-83页
     ·电压对增强 -抑制效应的影响第83-84页
     ·表面电荷分布的发展第84-86页
   ·扰动的增强与抑制第86-91页
     ·空间电荷背景浓度的影响第86-88页
     ·气压的影响第88-91页
     ·磁场的影响第91页
   ·影响 DBD 结构的关键因素第91-98页
     ·空间电荷与表面电荷的影响的比较第91-94页
     ·频率的影响第94-96页
     ·电压的影响第96页
     ·边界的影响第96-98页
   ·本章小结第98-100页
总结与展望第100-102页
参考文献第102-108页
攻读学位期间发表论文与研究成果清单第108-109页
致谢第109-110页
作者简介第110页

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