| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·课题的来源及意义 | 第11-13页 |
| ·课题的来源 | 第11页 |
| ·课题的研究背景及意义 | 第11-13页 |
| ·碳化硅光学材料加工研究现状 | 第13-15页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光研究现状 | 第15-17页 |
| ·芬顿反应理论概述 | 第15-16页 |
| ·碳化硅材料芬顿辅助抛光现状 | 第16-17页 |
| ·论文主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 碳化硅光学材料芬顿辅助抛光机理研究 | 第19-32页 |
| ·芬顿试剂与碳化硅光学材料的化学作用机制 | 第19-22页 |
| ·芬顿试剂与碳化硅光学材料反应原理 | 第19-21页 |
| ·芬顿试剂氧化碳化硅光学材料表面深度 | 第21-22页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光材料机械特性变化研究 | 第22-26页 |
| ·纳米压痕实验原理 | 第22-23页 |
| ·碳化硅光学材料表面硬度变化分析 | 第23-25页 |
| ·碳化硅光学材料表面硬度变化仿真 | 第25-26页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光材料去除机理分析 | 第26-30页 |
| ·单颗粒磨料理论简述 | 第26-27页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光去除机理 | 第27-29页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光材料去除效率仿真 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 芬顿辅助抛光液配制工艺研究 | 第32-37页 |
| ·化学机械抛光液概述 | 第32-33页 |
| ·芬顿辅助抛光液配制方法 | 第33-34页 |
| ·芬顿辅助抛光液加工性能研究 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 碳化硅光学材料芬顿辅助抛光基本工艺特性研究 | 第37-46页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光工艺参数影响规律 | 第37-41页 |
| ·田口实验方法设计 | 第37-38页 |
| ·工艺参数对去除效率的影响 | 第38-40页 |
| ·工艺参数对表面质量的影响 | 第40-41页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光工艺特性对比研究 | 第41-44页 |
| ·去除效率的工艺特性对比研究 | 第41-43页 |
| ·表面质量的工艺特性对比研究 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 碳化硅光学材料芬顿辅助抛光加工工艺流程及实例 | 第46-56页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光加工工艺流程 | 第46-48页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光加工实例 | 第48-55页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光 CCOS 装置简介 | 第48页 |
| ·碳化硅光学材料芬顿辅助抛光加工实例分析 | 第48-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 总结与展望 | 第56-59页 |
| ·全文总结 | 第56-57页 |
| ·研究展望 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第64页 |