光纤激光抖动法相干合成技术研究
摘要 | 第1-16页 |
Abstract | 第16-18页 |
第一章 绪论 | 第18-26页 |
·光纤激光的发展现状 | 第18-21页 |
·相干合成的应用需求 | 第21-23页 |
·光纤激光相干合成的研究现状 | 第23-24页 |
·被动锁相相干合成技术 | 第23页 |
·主动锁相相干合成技术 | 第23-24页 |
·论文的研究思路 | 第24-26页 |
第二章 光纤激光相干合成系统简介 | 第26-45页 |
·系统结构简介 | 第26-27页 |
·光纤激光相位噪声特性 | 第27-30页 |
·实验室环境下光纤激光相位噪声的分布 | 第27-30页 |
·光束阵列阵元数量对相位噪声的影响 | 第30页 |
·相位锁定技术 | 第30-35页 |
·锁相方法 | 第30-33页 |
·锁相系统硬件介绍 | 第33-35页 |
·光束合成技术 | 第35-41页 |
·阵列光束分孔径合成技术 | 第35-39页 |
·基于衍射光学元件的光束合成 | 第39页 |
·相干偏振合成 | 第39-40页 |
·基于光波导的光束合成 | 第40-41页 |
·系统性能评价 | 第41-44页 |
·BPF 因子 | 第41-42页 |
·合成效率 | 第42页 |
·远场光斑条纹对比度 | 第42-43页 |
·均方根相位残差 | 第43-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第三章 多抖动法锁相技术研究 | 第45-84页 |
·多抖动法锁相技术原理 | 第45-51页 |
·多抖动法锁相技术简介 | 第45-46页 |
·多抖动法锁相技术的数学推导 | 第46-51页 |
·阵列光束分孔径合成情况下性能评价函数的选取 | 第51-57页 |
·两路光束合成时相位调制强度随针孔尺寸的变化关系 | 第52-53页 |
·近场光束位置对性能评价函数的影响 | 第53-54页 |
·最优针孔尺寸随阵元数量的变化关系 | 第54页 |
·最优针孔尺寸随光束阵列占空比的变化关系 | 第54-55页 |
·最优针孔尺寸随单元光束光斑尺寸的变化关系 | 第55-56页 |
·最优针孔尺寸随激光波长的变化关系 | 第56页 |
·最小负值强度随占空比和阵元数量的变化关系 | 第56-57页 |
·单元光束的光强起伏对相干合成的影响 | 第57-62页 |
·理论分析 | 第57-58页 |
·模拟仿真 | 第58-62页 |
·基于多抖动法的信号处理器 | 第62-68页 |
·原理简介 | 第63-64页 |
·主要参数设置 | 第64-65页 |
·电子器件选择及其电路设计 | 第65-66页 |
·相位控制器性能测试 | 第66-68页 |
·多抖动法锁相技术实验研究 | 第68-76页 |
·四路光纤激光多抖动法相干合成实验 | 第68-71页 |
·九路 10W 级光纤激光的相干合成 | 第71-72页 |
·单元光束光强起伏对相干合成影响的实验研究 | 第72-76页 |
·多抖动法相干合成系统的改进 | 第76-82页 |
·压电陶瓷相位调制器 | 第76-78页 |
·双 PZT 相位调制器的性能测试 | 第78页 |
·基于双 PZT 相位调制器相干合成方案的优势 | 第78-80页 |
·2μm 光纤激光的相干合成 | 第80-82页 |
·本章小结 | 第82-84页 |
第四章 单频抖动法锁相技术研究 | 第84-102页 |
·单频抖动法 | 第84-94页 |
·单频抖动法的提出 | 第84-85页 |
·原理简介 | 第85-86页 |
·理论推导 | 第86-87页 |
·实验验证 | 第87-91页 |
·阵元数量对单频抖动法控制速度的影响 | 第91-94页 |
·单频正交抖动法 | 第94-98页 |
·原理简介 | 第94-95页 |
·理论推导 | 第95-96页 |
·实验验证 | 第96-98页 |
·多、单抖动法混合锁相技术 | 第98-101页 |
·原理简介 | 第98-99页 |
·实验验证 | 第99-101页 |
·本章小结 | 第101-102页 |
第五章 基于目标在回路的激光阵列锁相技术研究 | 第102-122页 |
·目标在回路光纤激光相干合成简介 | 第102-107页 |
·目标在回路光纤激光相干合成原理 | 第103-105页 |
·光电探测器灵敏度与目标距离的关系 | 第105-106页 |
·大气湍流对发射距离的影响 | 第106-107页 |
·大气湍流对相位调制信号影响的理论计算 | 第107-115页 |
·理论推导 | 第107-110页 |
·数值仿真 | 第110-115页 |
·对实际工作的指导建议 | 第115页 |
·目标在回路相干合成的实验验证 | 第115-121页 |
·两路 4W 目标在回路相干合成实验 | 第116-117页 |
·九路 10W 级目标在回路相干合成实验 | 第117-121页 |
·本章小结 | 第121-122页 |
第六章 阵列光束分孔径合成技术 | 第122-137页 |
·阵列光束分孔径合成技术简介 | 第122-123页 |
·基于高斯光束的分孔径合成 | 第123-127页 |
·高斯光束分孔径合成的理论推导 | 第123-124页 |
·数值仿真分析 | 第124-127页 |
·基于超高斯光束的分孔径合成 | 第127-135页 |
·圆形超高斯光束分孔径合成 | 第127-130页 |
·方形超高斯光束分孔径合成 | 第130-133页 |
·阵列排列形式对合成效果的影响 | 第133-135页 |
·基于分孔径合成方式的光束合成系统 | 第135-136页 |
·本章小结 | 第136-137页 |
第七章 总结与展望 | 第137-141页 |
·论文主要工作及其相关成果 | 第137-138页 |
·论文主要创新工作 | 第138-139页 |
·后续工作展望 | 第139-141页 |
致谢 | 第141-143页 |
参考文献 | 第143-155页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第155-160页 |