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硅纳米团簇的结构稳定性及电子性质的第一性原理研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-9页
第一章 绪论第9-15页
   ·半导体纳米团簇简介第9-11页
     ·量子限制效应第9-10页
     ·表面效应第10-11页
   ·硅纳米团簇第11-13页
     ·硅纳米团簇的应用前景第11-12页
     ·国内外研究现状第12-13页
   ·研究基础第13页
   ·本论文的研究内容及方法第13-15页
第二章 计算方法与理论基础第15-23页
   ·引言第15页
   ·绝热近似第15-17页
   ·单电子近似(Hartree-Fock 近似)第17-18页
   ·密度泛函理论第18-21页
     ·Kohn-Sham 方程第19-20页
     ·局域密度近似第20-21页
     ·广义梯度近似第21页
   ·赝势方法第21-22页
   ·计算软件 VASP 简介第22-23页
第三章 氢饱和硅纳米团簇结构稳定性和电子性质的的理论研究:尺寸、形状和表面重构第23-35页
   ·研究背景简介第23-24页
   ·计算细节第24-25页
   ·结果与讨论第25-33页
     ·具有小 H/Si 比的 H-SiNCs 结构第25-28页
     ·H-SiNCs 的结构稳定性第28-31页
     ·H-SiNCs 结构的电子性质第31-33页
   ·小结第33-35页
第四章 通过表面悬挂键及分子吸附对硅纳米团簇导电性的调控第35-44页
   ·研究背景简介第35-36页
   ·计算细节第36页
   ·结果与讨论第36-43页
     ·表面悬挂键的非对称性掺杂第36-39页
     ·悬挂键与分子吸附的共同作用第39-43页
   ·小结第43-44页
第五章 总结与展望第44-48页
   ·总结第44页
   ·展望第44-48页
     ·激发态带隙第45-46页
     ·sp~2与 sp~3杂化共存的团簇第46-48页
参考文献第48-54页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第54-55页
致谢第55-56页
附件第56页

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