| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| ·磁记录物理及磁记录介质概述 | 第11-18页 |
| ·硬盘磁记录技术的发展历程 | 第11-14页 |
| ·磁记录的基本原理 | 第14-16页 |
| ·超高密度磁记录介质材料的特点 | 第16-18页 |
| ·L1_0-FePt 合金薄膜材料的特点和研究现状 | 第18-28页 |
| ·L1_0-FePt 有序合金相的结构与特点 | 第18-20页 |
| ·L1_0-FePt 有序合金的研究热点 | 第20-21页 |
| ·L1_0-FePt 合金低温有序化的研究 | 第21-23页 |
| ·垂直磁各向异性 L1_0-FePt 薄膜的研究 | 第23-25页 |
| ·L1_0-FePt 纳米复合颗粒膜的研究 | 第25-26页 |
| ·L1_0-FePt 薄膜的磁性能调控的探究 | 第26-28页 |
| ·超高密度磁记录 L1_0-FePt 薄膜的未来发展 | 第28页 |
| ·选题意义及主要研究内容 | 第28-31页 |
| ·选题意义 | 第28-29页 |
| ·主要研究内容 | 第29-31页 |
| 第二章 薄膜的制备与性能表征 | 第31-41页 |
| ·制备薄膜的方法 | 第31-34页 |
| ·物理气相沉积（PVD） | 第31-32页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第32-33页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第33页 |
| ·薄膜的热处理 | 第33-34页 |
| ·薄膜的性能表征 | 第34-41页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第34-35页 |
| ·薄膜成分的测量 | 第35-36页 |
| ·薄膜晶体结构的表征 | 第36-37页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第37-38页 |
| ·薄膜微观结构分析 | 第38-39页 |
| ·薄膜磁性的测量 | 第39-41页 |
| 第三章 FePt 连续薄膜的研究 | 第41-55页 |
| ·薄膜的制备 | 第42-43页 |
| ·厚度对 FePt 薄膜的影响 | 第43-46页 |
| ·退火温度对 FePt 薄膜的影响 | 第46-48页 |
| ·退火时间对 FePt 薄膜的影响 | 第48-50页 |
| ·Fe/Pt 原子比对 FePt 薄膜的影响 | 第50-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第四章 FePt-Si-N 纳米颗粒薄膜的研究 | 第55-73页 |
| ·薄膜的制备 | 第56页 |
| ·退火温度对 FePt-Si-N 薄膜结构和磁性能的影响 | 第56-59页 |
| ·N 分压对 FePt-Si-N 薄膜结构和磁性能的影响 | 第59-64页 |
| ·添加 Si、N 对 FePt-Si-N 薄膜晶粒间相互作用的影响 | 第64-65页 |
| ·Fe/Pt 原子比对 FePt-Si-N 薄膜磁性能的影响 | 第65-66页 |
| ·Si 含量对 FePt-Si-N 薄膜微观结构和磁性能的影响 | 第66-69页 |
| ·FePt-Si-N 纳米复合薄膜微观结构 | 第69-71页 |
| ·小结 | 第71-73页 |
| 第五章 垂直取向 FePt 底层薄膜的研究 | 第73-85页 |
| ·Cr 薄膜的晶体织构形成的相关理论 | 第74-75页 |
| ·Cr 薄膜的研究 | 第75-78页 |
| ·不同加热温度对 Cr 膜取向的影响 | 第76页 |
| ·偏压对 Cr 膜取向的影响 | 第76-77页 |
| ·厚度对 Cr 膜取向的影响 | 第77-78页 |
| ·CrRu 薄膜的研究 | 第78-80页 |
| ·Cr_(90)Ru_(10)薄膜的研究 | 第78-80页 |
| ·FePt/Cr 薄膜的研究 | 第80-83页 |
| ·采用基片加热方法制备 FePt 薄膜 | 第80-82页 |
| ·FePt/Cr 薄膜的研究 | 第82-83页 |
| ·小结 | 第83-85页 |
| 结论 | 第85-89页 |
| 参考文献 | 第89-95页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第95-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
| 附件 | 第98页 |
