摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
1 绪论 | 第10-21页 |
·镁及镁合金 | 第10-15页 |
·镁及镁合金结构 | 第10-11页 |
·镁合金的腐蚀行为 | 第11-12页 |
·镁合金的表面防护技术 | 第12页 |
·AZ31镁合金 | 第12-14页 |
·AZ31镁合金的性能及应用 | 第14-15页 |
·氮化锆薄膜 | 第15-16页 |
·ZrNx(Zirconium Nitrogen)薄膜的研究现状 | 第15-16页 |
·ZrNx薄膜的应用 | 第16页 |
·常见的几种制备氮化锆薄膜的方法 | 第16-20页 |
·化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD) | 第16-18页 |
·物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD) | 第18-20页 |
·本文的主要研究流程 | 第20-21页 |
2 氮化锆薄膜的制备方法 | 第21-30页 |
·真空阴极电弧离子镀制备氮化锆薄膜 | 第21-25页 |
·真空阴极电弧离子镀的原理 | 第21-23页 |
·实验设备 | 第23-24页 |
·ZrNx薄膜的制备工艺 | 第24-25页 |
·中频磁控溅射制备氮化锆薄膜 | 第25-30页 |
·中频磁控溅射的原理 | 第25-27页 |
·实验设备 | 第27-28页 |
·ZrNx薄膜的制备工艺 | 第28-30页 |
3 氮化锆薄膜的表征 | 第30-37页 |
·台阶仪 | 第30-32页 |
·X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
·电化学腐蚀 | 第33-34页 |
·摩擦系数 | 第34-35页 |
·表面划痕 | 第35-36页 |
·薄膜的硬度测量 | 第36-37页 |
4 AZ31镁合金真空阴极离子镀制备ZrNx薄膜性能的研究 | 第37-47页 |
·ZrNx薄膜的结构分析 | 第37-40页 |
·薄膜的沉积速率 | 第37-38页 |
·薄膜表面粗糙度 | 第38-40页 |
·XRD谱 | 第40页 |
·耐腐蚀性能的分析 | 第40-43页 |
·表面腐蚀形貌 | 第40-42页 |
·电化学腐蚀极化曲线 | 第42-43页 |
·力学性能的分析 | 第43-46页 |
·摩擦系数 | 第43-44页 |
·结合强度 | 第44-45页 |
·努氏硬度 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
5 AZ31镁合金中频磁控溅射氮化锆薄膜性能的研究 | 第47-59页 |
·ZrNx薄膜的结构分析 | 第47-51页 |
·沉积速率 | 第47-48页 |
·表面粗糙度 | 第48-50页 |
·XRD谱 | 第50-51页 |
·耐腐蚀性的分析 | 第51-54页 |
·表面腐蚀形貌 | 第51-52页 |
·电化学腐蚀极化曲线 | 第52-54页 |
·力学性能的分析 | 第54-57页 |
·摩擦系数 | 第54-56页 |
·结合强度 | 第56页 |
·努氏硬度 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
结论 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-64页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第64-65页 |
致谢 | 第65-66页 |