碳纤维基纳米铜薄膜导电及屏蔽性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·碳纤维 | 第8-11页 |
| ·碳纤维分类及结构 | 第8-9页 |
| ·碳纤维性能及应用 | 第9页 |
| ·碳纤维表面处理 | 第9-11页 |
| ·薄膜制备方法 | 第11-12页 |
| ·化学镀 | 第11页 |
| ·脉冲激光法(PLD) | 第11-12页 |
| ·真空蒸发镀 | 第12页 |
| ·磁控溅射法 | 第12页 |
| ·电磁屏蔽技术与电磁屏蔽材料 | 第12-15页 |
| ·电磁屏蔽技术 | 第12-13页 |
| ·电磁屏蔽材料的分类 | 第13-14页 |
| ·电磁屏蔽材料的国内外研究现状 | 第14-15页 |
| ·选题的目的和意义 | 第15页 |
| ·论文的研究目标和主要内容 | 第15-18页 |
| ·论文的研究目标 | 第15页 |
| ·论文的主要内容 | 第15-18页 |
| 第二章 磁控溅射纳米铜薄膜的制备 | 第18-28页 |
| ·磁控溅射镀膜方法 | 第18-19页 |
| ·溅射原理 | 第18页 |
| ·溅射种类 | 第18-19页 |
| ·实验材料与实验设备 | 第19-20页 |
| ·实验材料 | 第19页 |
| ·实验设备 | 第19-20页 |
| ·纳米铜薄膜的制备 | 第20页 |
| ·基材的清洗 | 第20页 |
| ·基材的等离子预处理 | 第20页 |
| ·沉积纳米铜薄膜 | 第20页 |
| ·实验结果与分析 | 第20-26页 |
| ·等离子预处理对碳纤维拉伸强度的影响 | 第20-21页 |
| ·溅射功率对薄膜沉积速率、增重率和结合牢度的影响 | 第21-24页 |
| ·溅射压强对薄膜沉积速率、增重率的影响 | 第24-25页 |
| ·靶基距对薄膜沉积速率的影响 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 碳纤维基纳米铜薄膜的成分和形貌分析 | 第28-38页 |
| ·测试设备 | 第28-30页 |
| ·EDX 的工作原理 | 第28页 |
| ·XRD 的工作原理 | 第28页 |
| ·AFM 的工作原理 | 第28-29页 |
| ·SEM 的工作原理 | 第29-30页 |
| ·实验结果与分析 | 第30-37页 |
| ·EDX 分析 | 第30-31页 |
| ·XRD 分析 | 第31页 |
| ·铜粒沉积在载玻片上时的表面形貌 | 第31-32页 |
| ·铜粒沉积在碳纤维毡上时的表面形貌 | 第32-33页 |
| ·单根碳纤维镀铜前后的表面形貌 | 第33-35页 |
| ·溅射时间对纳米铜薄膜表面形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 碳纤维基纳米铜薄膜的导电性能研究 | 第38-44页 |
| ·薄膜的电学性能 | 第38页 |
| ·测试设备 | 第38-39页 |
| ·实验结果与分析 | 第39-42页 |
| ·碳纤维束溅射镀铜工艺的优化研究 | 第39-40页 |
| ·溅射功率对镀铜碳纤维毡导电性能的影响 | 第40-41页 |
| ·溅射压强对镀铜碳纤维毡导电性能的影响 | 第41页 |
| ·溅射时间对镀铜碳纤维毡导电性能的影响 | 第41-42页 |
| ·基材平方米克重对镀铜碳纤维毡导电性能的影响 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第五章 碳纤维基纳米铜薄膜的电磁屏蔽性能研究 | 第44-50页 |
| ·电磁屏蔽原理 | 第44页 |
| ·测试设备 | 第44-45页 |
| ·实验结果与分析 | 第45-48页 |
| ·溅射时间对镀铜碳纤维毡电磁屏蔽效能的影响 | 第45-46页 |
| ·基材组织对镀铜碳纤维毡电磁屏蔽效能的影响 | 第46-47页 |
| ·基材平方米克重对镀铜碳纤维毡电磁屏蔽效能的影响 | 第47-48页 |
| ·薄膜层数对镀铜碳纤维毡电磁屏蔽效能的影响 | 第48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第六章 总结与展望 | 第50-52页 |
| ·总结 | 第50页 |
| ·展望及继续研究方向 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表论文 | 第58页 |
