| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| ·铝合金表面处理现状 | 第9-11页 |
| ·微弧氧化技术 | 第11-17页 |
| ·微弧氧化技术的发展 | 第11-12页 |
| ·微弧氧化现象及原理 | 第12-13页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的生长机理 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的性能特点及应用 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术的影响因素 | 第15-17页 |
| ·课题的目的及意义 | 第17-19页 |
| ·课题的国内外研究现状 | 第19-20页 |
| ·课题的研究内容 | 第20-22页 |
| 2 试验方法 | 第22-31页 |
| ·实验材料 | 第22页 |
| ·材料的成分 | 第22页 |
| ·试样的制备 | 第22页 |
| ·微弧氧化设备及制备流程 | 第22-24页 |
| ·微弧氧化设备 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化制备过程 | 第23-24页 |
| ·实验方案及步骤 | 第24-25页 |
| ·电解液体系 | 第24页 |
| ·电参数的选择 | 第24-25页 |
| ·膜层检测设备及试验方法 | 第25-26页 |
| ·膜层性能检测 | 第26-28页 |
| ·外观 | 第26页 |
| ·膜层的厚度 | 第26页 |
| ·膜层的隔热性 | 第26-27页 |
| ·膜层的结合强度 | 第27页 |
| ·膜层的耐磨性 | 第27-28页 |
| ·膜层的抗热震性 | 第28页 |
| ·膜层的生长过程和生长机理的试验方案设计 | 第28-30页 |
| ·膜层的生长过程试验方案 | 第28-29页 |
| ·膜层生长机理的证明试验 | 第29-30页 |
| ·实验技术路线 | 第30-31页 |
| 3 微弧氧化膜层的制备及工艺参数的确定 | 第31-51页 |
| ·电解液配方的选定 | 第31-38页 |
| ·K_2ZrF_6-KOH体系 | 第31-33页 |
| ·K_2ZrF_6-KOH-Na_2SiO_3体系 | 第33-34页 |
| ·两种电解液体系所得膜层的微观形貌和相成分 | 第34-37页 |
| ·两种电解液体系所得膜层性能、质量的比较 | 第37-38页 |
| ·工艺参数的研究 | 第38-48页 |
| ·电流密度的选择 | 第38-39页 |
| ·频率的选择 | 第39-41页 |
| ·占空比的选择 | 第41-43页 |
| ·正脉冲个数的选择 | 第43-44页 |
| ·反应温度的影响 | 第44-47页 |
| ·反应时间的影响 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-51页 |
| 4 Al_2O_3-ZrO_2复合膜层的生长过程和生长机理 | 第51-66页 |
| ·Al_2O_3-ZrO_2复合膜层的生长过程 | 第51-57页 |
| ·Al_2O_3-ZrO_2复合膜层的生长曲线 | 第51-52页 |
| ·在不同氧化时间下Al_2O_3-ZrO_2复合膜层的生长方式 | 第52-53页 |
| ·不同氧化时间所得膜层的微观形貌 | 第53-55页 |
| ·微弧氧化膜层的截面形貌 | 第55-56页 |
| ·微弧氧化膜层的相组成 | 第56-57页 |
| ·微弧氧化膜层的生长机理 | 第57-60页 |
| ·微弧氧化膜层生长的电化学反应 | 第57页 |
| ·微弧氧化膜层的形成过程 | 第57-58页 |
| ·微弧氧化膜层的形成过程中的反应 | 第58-60页 |
| ·与膜层生成有关的证明试验 | 第60-64页 |
| ·Zr(OH)_4的热分解 | 第60-62页 |
| ·ZrO_2的相转变 | 第62-63页 |
| ·Al_2O_3稳定的ZrO_2的相变过程 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 5 Al_2O_3-ZrO_2复合膜层的性能测定 | 第66-70页 |
| ·隔热性的测定 | 第66-67页 |
| ·结合强度的测定 | 第67页 |
| ·耐磨性的测定 | 第67-68页 |
| ·抗热震性测定 | 第68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 6 结论 | 第70-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
