RFMS法制备ZnO薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-21页 |
| ·ZnO的性质及应用 | 第7-11页 |
| ·ZnO薄膜的制备及其掺杂 | 第11-15页 |
| ·ZnO薄膜的稀磁性 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜国内外研究进展 | 第16-20页 |
| ·选题的意义 | 第20-21页 |
| 第二章 实验及测试 | 第21-32页 |
| ·溅射镀膜 | 第21-22页 |
| ·溅射镀膜的工作原理 | 第21-22页 |
| ·溅射镀膜的特点 | 第22页 |
| ·溅射镀膜的分类 | 第22页 |
| ·RFMS镀膜 | 第22-25页 |
| ·RFMS的原理 | 第22-24页 |
| ·RFMS的特点 | 第24-25页 |
| ·直流反应RFMS试验装置 | 第25-27页 |
| ·设备的主要技术参数 | 第25页 |
| ·设备的构成 | 第25-27页 |
| ·溅射操作程序 | 第27页 |
| ·测试方法 | 第27-32页 |
| ·结构分析 | 第27-28页 |
| ·形貌分析 | 第28-30页 |
| ·发光测试 | 第30页 |
| ·光吸收谱测试 | 第30-32页 |
| 第三章 ZnO薄膜制备工艺对其结构及光学性能影响 | 第32-59页 |
| ·工作压强对氧化锌薄膜的影响 | 第32-41页 |
| ·工作压强对氧化锌薄膜结构的影响 | 第32-34页 |
| ·工作压强对氧化锌薄膜形貌的影响 | 第34-37页 |
| ·工作压强对氧化锌薄膜场致发光的影响 | 第37-38页 |
| ·工作压强对氧化锌薄膜光致发光的影响 | 第38-40页 |
| ·工作压强对氧化锌薄膜的可见光透过率的影响 | 第40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| ·退火处理对薄膜的影响 | 第41-47页 |
| ·退火处理对薄膜结构的影响 | 第41-43页 |
| ·退火处理对薄膜形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·退火处理对薄膜光致发光的影响 | 第45-46页 |
| ·退火处理对薄膜的透过率的影响 | 第46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| ·溅射功率对ZnO薄膜的影响 | 第47-51页 |
| ·溅射功率对ZnO薄膜结构的影响 | 第47-48页 |
| ·溅射功率对ZnO薄膜形貌的影响 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的影响 | 第51-59页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第51-53页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜形貌结构的影响 | 第53-56页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜场致发光的影响 | 第56-57页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜光致发光的影响 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第四章 ZnO薄膜的掺杂 | 第59-64页 |
| ·NH_3作为掺杂剂的掺杂 | 第59-62页 |
| ·N_2作为掺杂剂的掺杂 | 第62-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录 | 第71页 |
