| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| ·化学机械抛光技术简介 | 第8-9页 |
| ·CMP 工作原理 | 第8页 |
| ·CMP 材料去除机理 | 第8-9页 |
| ·国内外研究现状与发展 | 第9-12页 |
| ·CMP 电化学理论及测试的研究进展 | 第9-10页 |
| ·CMP 设备的现状 | 第10-12页 |
| ·课题的来源、目的和意义 | 第12页 |
| ·课题的来源 | 第12页 |
| ·研究的目的 | 第12页 |
| ·研究的意义 | 第12页 |
| ·本课题开展的主要工作 | 第12-14页 |
| 第2章 CMP 运动机理的研究及试验台总体设计方案的确定 | 第14-23页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·化学机械抛光运动机理的研究 | 第14-18页 |
| ·CMP 运动模型的建立 | 第14-16页 |
| ·结构参数和运动参数对运动轨迹的影响 | 第16-18页 |
| ·试验台总体结构方案的确定 | 第18-23页 |
| ·主要设计思路 | 第18-19页 |
| ·设计方案的确定 | 第19-23页 |
| 第3章 CMP 电化学测试试验台的机构设计 | 第23-31页 |
| ·传动机构的设计 | 第23-25页 |
| ·电机的选择 | 第23页 |
| ·同步带传动的设计 | 第23-25页 |
| ·加压机构的设计 | 第25-27页 |
| ·运动机构的设计 | 第27-30页 |
| ·抛光头的设计 | 第27-28页 |
| ·抛光盘的设计 | 第28-30页 |
| ·机架的设计及整机的性能分析 | 第30-31页 |
| 第4章 CMP 电化学测试试验台测量控制系统的设计 | 第31-48页 |
| ·抛光压力的测量控制 | 第31-43页 |
| ·力传感器的设计 | 第31-36页 |
| ·压力测量系统的数据采集及处理 | 第36-41页 |
| ·利用数据采集系统进行传感器的标定 | 第41-43页 |
| ·电机的转速控制 | 第43-46页 |
| ·交流调速系统概况 | 第43-44页 |
| ·变频变压调速的基本控制方式 | 第44-45页 |
| ·变频器频率与电机转速关系的拟合 | 第45-46页 |
| ·PS－168C 型电化学测量系统简介. | 第46-48页 |
| 第5章 金属化学机械抛光过程的电化学试验 | 第48-54页 |
| ·电化学理论在CMP 中的应用 | 第48-49页 |
| ·主要的电化学测试方法 | 第48页 |
| ·电化学测试在金属CMP 机理研究上的应用 | 第48-49页 |
| ·电化学理论在应用上存在的不足 | 第49页 |
| ·铝的化学机械抛光电化学测试试验 | 第49-54页 |
| ·试验准备 | 第49-50页 |
| ·试验与结果分析 | 第50-54页 |
| 第6章 结论与展望 | 第54-56页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| ·展望 | 第55-56页 |
| 附录I 拟合直线用的MATLAB 程序 | 第56-57页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |