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溶胶凝胶法制备透明超疏水纳米二氧化硅薄膜的研究

摘要第1-9页
ABSTRACT第9-11页
第1章 绪论第11-33页
   ·超疏水表面的理论基础第11-17页
     ·静态接触角第11-12页
     ·水滴与粗糙固体表面接触的Wenzel 模式第12页
     ·水滴与粗糙固体表面接触的Cassie 模式第12-13页
     ·两种模式之间的关系第13-15页
     ·滚动角理论第15-16页
     ·植物叶表面的疏水性第16-17页
   ·超疏水表面的制备技术第17-27页
     ·机械加工法第17-18页
     ·使用了光刻技术的微加工法第18-19页
     ·激光刻蚀法第19-20页
     ·等离子体刻蚀法第20页
     ·物理气相沉积法第20-21页
     ·溶胶-凝胶法第21-24页
     ·聚合物溶液浇注法第24-25页
     ·静电纺纱法第25页
     ·聚电解质交替沉积法第25-26页
     ·纳米管(棒)阵列法第26-27页
   ·相分离理论第27-31页
     ·聚合物的相分离热力学第27-30页
     ·相分离动力学的两种机制第30-31页
   ·超疏水表面技术中存在的问题、应用前景以及最新发展动向第31-32页
   ·本文的立题思想第32-33页
第2章 实验材料及实验方法第33-41页
   ·主要仪器和试剂第33-34页
     ·主要仪器第33页
     ·主要试剂第33-34页
   ·实验流程图第34页
   ·膜层的制备第34-35页
   ·表征方法第35-38页
     ·激光粒度分析仪表征第35页
     ·扫描电子显微镜(SEM)表征第35页
     ·原子力显微镜(AFM)表征第35-36页
     ·接触角测定第36-37页
     ·可见光透过率光谱分析第37页
     ·红外光谱分析第37-38页
   ·薄膜的械强度和耐环境性能的测定[95]第38-41页
第3章 高分子量聚丙稀酸(HPAA)作相分离添加剂制备的超疏水薄膜第41-63页
   ·酸溶胶的制备第41页
   ·碱溶胶的制备及表征第41-43页
     ·两种不同粒径碱溶胶的制备第41页
     ·碱溶胶的后续处理第41-42页
     ·碱溶胶粒径表征第42页
     ·碱溶胶制备的理论探讨第42-43页
   ·聚丙稀酸的合成第43页
   ·混合溶胶的制备第43页
   ·镀膜第43页
   ·烘干及热处理第43页
   ·修饰平滑表面的接触角测定第43-45页
   ·碱溶胶的粒径对薄膜表面接触角的影响第45-46页
   ·聚丙稀酸含量对薄膜表面接触角的影响第46页
   ·薄膜表面形貌表征第46-51页
     ·扫描电子显微镜(SEM)表征第46-49页
     ·原子力显微镜(AFM)表征第49-51页
   ·表面修饰第51-58页
     ·薄膜接枝原理第51-52页
     ·薄膜表面气相沉积修饰第52-53页
     ·薄膜表面溶液反应修饰第53页
     ·温度对TMCS 修饰的影响第53-54页
     ·温度对SCA 修饰的影响第54页
     ·修饰时间对TMCS 和SCA 修饰的影响第54-55页
     ·红外光谱表征第55-58页
   ·二氧化硅超疏水薄膜的疏水机理第58-61页
     ·双重粗糙度结合的优点第58-61页
     ·产生高接触角的原因第61页
   ·薄膜的透光性第61-62页
   ·小结第62-63页
第4章 低分子量聚丙稀酸(LPAA)作相分离添加剂制备的高疏水薄膜第63-69页
   ·混合溶胶的制备第63页
   ·聚丙稀酸含量对薄膜疏水性能的影响第63-64页
   ·薄膜表面微观结构表征第64-66页
     ·电子显微镜(SEM)表征第64-65页
     ·原子力显微镜(AFM)表征第65-66页
   ·二氧化硅薄膜的疏水机理第66-67页
   ·小结第67-69页
第5章 薄膜机械性能和耐环境性能研究第69-73页
   ·薄膜厚度对薄膜疏水和机械性能的影响第69页
   ·薄膜具有高机械强度的原因第69-71页
   ·薄膜耐环境性能的探讨第71页
   ·本章小结第71-73页
第6章 总结第73-75页
   ·主要总结第73页
   ·主要创新点第73-74页
   ·有待进一步研究的问题第74-75页
参考文献第75-83页
致谢第83-84页
攻读硕士学位期间取得的科研成果第84页

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