| 第一章 绪论 | 第1-27页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·纳米材料概述 | 第13-16页 |
| ·纳米材料的基本概念 | 第13-14页 |
| ·纳米材料的基本特征 | 第14-16页 |
| ·纳米结构 | 第16-22页 |
| ·纳米结构的自组装体系 | 第17-18页 |
| ·厚膜模板合成纳米阵列 | 第18-20页 |
| ·模板的制备和分类 | 第18-19页 |
| ·纳米结构材料的模板合成法 | 第19-20页 |
| ·介孔固体和介孔复合体 | 第20-21页 |
| ·单电子晶体管 | 第21页 |
| ·纳米器件的组装 | 第21-22页 |
| ·纳米阵列体系 | 第22-24页 |
| ·金属阵列体系 | 第22页 |
| ·高分子阵列体系 | 第22-23页 |
| ·半导体阵列体系 | 第23页 |
| ·复合材料阵列体系 | 第23-24页 |
| ·本论文选题背景和研究内容 | 第24-27页 |
| 第二章 氧化铝模板的制备 | 第27-39页 |
| ·引言 | 第27-28页 |
| ·实验 | 第28-32页 |
| ·实验装置 | 第28-29页 |
| ·实验过程 | 第29-32页 |
| ·结果与分析 | 第32-37页 |
| ·多孔氧化铝模板的模型 | 第32页 |
| ·多孔氧化铝模板的电镜观察与分析 | 第32-35页 |
| ·多孔氧化铝模板的X-Ray衍射分析 | 第35页 |
| ·多孔氧化铝模板的生长机理的研究 | 第35-37页 |
| ·本章小节 | 第37-39页 |
| 第三章 Ni-P纳米阵列体系的制备及磁学性能研究 | 第39-57页 |
| ·引言 | 第39-40页 |
| ·实验过程 | 第40-48页 |
| ·化学沉积的前处理过程 | 第40-43页 |
| ·粗化 | 第40-41页 |
| ·敏化 | 第41-42页 |
| ·活化 | 第42-43页 |
| ·还原 | 第43页 |
| ·化学沉积Ni-P纳米阵列 | 第43-48页 |
| ·化学镀液药品的选取 | 第44-46页 |
| ·化学沉积镀液的配制 | 第46-47页 |
| ·化学沉积的工艺过程 | 第47-48页 |
| ·形貌、结构表征与磁性测量 | 第48页 |
| ·结果与分析 | 第48-56页 |
| ·化学沉积过程的机理分析 | 第48-50页 |
| ·沉积反应的热力学可能性 | 第48-49页 |
| ·沉积反应的动力学分析 | 第49页 |
| ·沉积反应机理 | 第49-50页 |
| ·氧化铝模板的化学沉积注意事项 | 第50-51页 |
| ·纳米 Ni-P/Al_2O_3组装体系的结构与形貌表征 | 第51-54页 |
| ·Ni-P纳米阵列的磁性研究 | 第54-56页 |
| ·本章小节 | 第56-57页 |
| 第四章 低温化学沉积法制备 Ni-P纳米线与纳米管 | 第57-64页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·实验部分 | 第57-59页 |
| ·多孔氧化铝模板的制备 | 第58页 |
| ·Ni-P纳米线阵列的组装 | 第58页 |
| ·Ni-P纳米管阵列的组装 | 第58页 |
| ·样品形貌与结构表征 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-62页 |
| ·本章小节 | 第62-64页 |
| 第五章 Cu纳米阵列体系的制备与光吸收 | 第64-71页 |
| ·引言 | 第64-65页 |
| ·实验 | 第65页 |
| ·纳米 Cu/Al_2O_3组装体系的合成 | 第65页 |
| ·结构表征与测试 | 第65页 |
| ·结果和讨论 | 第65-70页 |
| ·样品的形貌结构分析 | 第65-69页 |
| ·纳米 Cu粒子/Al_2O_3组装体的光吸收测试 | 第69-70页 |
| ·本章小节 | 第70-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
