| 第1章 绪论 | 第1-25页 |
| ·气敏传感器及其分类 | 第10-12页 |
| ·国内外气体传感器的发展状况 | 第12-16页 |
| ·纳米氧化物半导体气敏材料 | 第16-18页 |
| ·纳米SnO_2 基气敏材料研究进展 | 第18-24页 |
| ·本文研究目的和研究内容 | 第24-25页 |
| 第2章 SnO_2粉体合成及传感器制作工艺 | 第25-35页 |
| ·溶胶-凝胶法原理 | 第25-28页 |
| ·SnO_2 纳米粉体的合成 | 第28-31页 |
| ·主要化学试剂、仪器设备及工艺环境要求 | 第28-29页 |
| ·SnO_2 纳米粉体合成过程 | 第29-31页 |
| ·气体传感器的制作 | 第31-33页 |
| ·测试方法 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 SnO_2气体传感器性能 | 第35-46页 |
| ·修饰前气敏性能 | 第35-36页 |
| ·SnO_2 气体传感器初期稳定性 | 第35-36页 |
| ·SnO_2 气体传感器灵敏度特性 | 第36页 |
| ·Al_20_3（Pt）修饰SnO_2 双层膜的气敏性能 | 第36-40页 |
| ·Pt 浓度对修饰SnO_2 双层膜初期稳定性的影响 | 第36-37页 |
| ·Pt 浓度对修饰SnO_2 双层膜气敏性能的影响 | 第37-40页 |
| ·加热电压对修饰SnO_2 双层膜气敏性能的影响 | 第40页 |
| ·TiO_2(Pt)修饰SnO_2 双层膜的气敏性能 | 第40-45页 |
| ·Pt 浓度对修饰SnO_2 双层膜初期稳定性的影响 | 第40-41页 |
| ·Pt 浓度对修饰SnO_2 双层膜气敏性能的影响 | 第41-44页 |
| ·加热电压对修饰SnO_2 双层膜的气敏性影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 Al_20_3修饰SnO_2双层膜的表征及组分分析 | 第46-52页 |
| ·SnO_2 敏感层微观结构 | 第46-47页 |
| ·Al_20_3 催化层的表面形貌 | 第47-49页 |
| ·双层膜断面形貌 | 第49-50页 |
| ·双层膜气体传感器的组分分析 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 气敏机理及表面修饰机理探讨 | 第52-66页 |
| ·SnO_2 气敏机理 | 第52-60页 |
| ·纯SnO_2 气敏机理 | 第52-58页 |
| ·纳米SnO_2 气敏机理 | 第58-59页 |
| ·纳米SnO_2 掺杂机理 | 第59-60页 |
| ·Al_20_3 表面催化修饰机理 | 第60-63页 |
| ·TiO_2 表面催化修饰机理 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
