极端条件下B-C-N体系功能材料的合成与表征
| 第一章 绪论 | 第1-47页 |
| ·B-C-N 体系新材料研究进展 | 第8-9页 |
| ·低压下合成立方氮化硼研究进展 | 第9-19页 |
| ·立方氮化硼的性质与应用 | 第10-12页 |
| ·立方氮化硼的高温高压合成 | 第12-15页 |
| ·低压下合成立方氮化硼的研究进展 | 第15-19页 |
| ·碳基多孔材料的研究进展 | 第19-30页 |
| ·碳基多孔材料概述 | 第19-21页 |
| ·碳基多孔材料合成的新进展 | 第21-29页 |
| ·碳基多孔材料的表面修饰 | 第29-30页 |
| ·C_3N_4 体材料合成的研究进展 | 第30-41页 |
| ·理论预测的C_3N_4 相 | 第31-36页 |
| ·体材料C_3N_4 相的合成进展 | 第36-40页 |
| ·总结与展望 | 第40-41页 |
| ·论文选题和研究的意义 | 第41-43页 |
| ·本论文研究的目的 | 第43-44页 |
| ·本论文研究的主要内容和论文梗概 | 第44-47页 |
| 第二章 直流电弧装置及性能 | 第47-60页 |
| ·电弧理论概述 | 第47-51页 |
| ·电弧的定义 | 第48-49页 |
| ·电弧的分类 | 第49-50页 |
| ·电弧的应用 | 第50-51页 |
| ·直流电弧理论的发展 | 第51页 |
| ·直流电弧装置及其性能 | 第51-53页 |
| ·直流电弧的物理性质 | 第53-58页 |
| ·直流电弧的速度分布 | 第53-55页 |
| ·直流电弧的温度分布 | 第55-57页 |
| ·直流电弧的电离度分布 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第三章 直流电弧等离子体中氮化硼的相变 | 第60-76页 |
| ·样品的制备与表征 | 第60-63页 |
| ·样品的制备过程 | 第60-62页 |
| ·样品的表征 | 第62-63页 |
| ·测试结果与讨论 | 第63-71页 |
| ·粉末X 射线衍射 | 第63-64页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第64-67页 |
| ·透射电子显微研究 | 第67-68页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第68-71页 |
| ·相变机制的探索 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第四章 碳基介孔材料的合成与表征 | 第76-93页 |
| ·样品的制备与表征 | 第76-79页 |
| ·样品的制备过程 | 第76-78页 |
| ·样品的表征 | 第78-79页 |
| ·测试结果与讨论 | 第79-87页 |
| ·化学元素分析 | 第79页 |
| ·粉末X 射线衍射 | 第79-80页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第80-83页 |
| ·透射电子显微研究 | 第83-84页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第84-87页 |
| ·合成机制分析 | 第87-91页 |
| ·t-C 纳米薄片的形成 | 第87-90页 |
| ·样品中官能团的形成 | 第90-91页 |
| ·本章小结 | 第91-93页 |
| 第五章 CN 材料的表征及原位高压研究 | 第93-109页 |
| ·CN 材料的高温高压合成 | 第93-102页 |
| ·样品的合成 | 第93-94页 |
| ·样品的表征 | 第94-102页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第94-98页 |
| ·粉末X 射线衍射 | 第98-100页 |
| ·傅立叶变换红外光谱 | 第100-102页 |
| ·CN 材料的高压原位同步辐射X 射线衍射研究 | 第102-108页 |
| ·CN 材料的高压原位同步辐射X 射线衍射 | 第102-106页 |
| ·CN 材料的等温状态方程 | 第106-108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 第六章 结论和展望 | 第109-114页 |
| ·结论 | 第109-112页 |
| ·展望 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-131页 |
| 攻博期间发表的学术论文 | 第131-133页 |
| 作者简历 | 第133-134页 |
| 致谢 | 第134-136页 |
| 附:中英文摘要 | 第136-147页 |
