| 摘要 | 第1-8页 |
| 英文摘要 | 第8-10页 |
| 1 前言 | 第10-16页 |
| 1．1 研究目的与立题意义 | 第10页 |
| 1．2 文献综述 | 第10-16页 |
| 2 植物根边缘细胞培养装置的设计及在根边缘细胞的应用 | 第16-21页 |
| 2．1 植物根边缘细胞培养装置的设计 | 第16-19页 |
| 2．1．1 设计思路 | 第16页 |
| 2．1．2 设计原理 | 第16-17页 |
| 2．1．3 制作 | 第17-18页 |
| 2．1．4 培养适宜条件的探索 | 第18页 |
| 2．1．5 制作结果显示 | 第18-19页 |
| 2．2 植物根边缘细胞培养箱在根边缘细胞研究中的应用 | 第19-21页 |
| 2．2．1 材料与方法 | 第19页 |
| 2．2．2 结果与分析 | 第19-20页 |
| 2．2．3 结论 | 第20-21页 |
| 3 不同外源硼水平豌豆根边缘细胞对铝毒的反应 | 第21-34页 |
| 3．1 材料与方法 | 第21-23页 |
| 3．1．1 豌豆种子的前处理及边缘细胞培养 | 第21页 |
| 3．1．2 实验设计 | 第21-22页 |
| 3．1．3 检测方法 | 第22-23页 |
| 3．1．4 数据处理 | 第23页 |
| 3．2 结果与分析 | 第23-32页 |
| 3．2．1 硼对豌豆根长、根边缘细胞活性和数量的影响 | 第23-25页 |
| 3．2．2 铝对根边缘细胞活性和数量的影响 | 第25-26页 |
| 3．2．3 硼铝对根边缘细胞活性和数量的影响 | 第26-28页 |
| 3．2．4 硼铝处理对根边缘细胞离子特性的影响 | 第28-29页 |
| 3．2．5 硼铝处理对根边缘细胞胞外分泌物的影响 | 第29-32页 |
| 3．3 讨论 | 第32-34页 |
| 4 不同硼含量豌豆根边缘细胞对铝毒的反应 | 第34-40页 |
| 4．1 材料与方法 | 第34-35页 |
| 4．1．1 豌豆种子的培养 | 第34页 |
| 4．1．2 豌豆种子的前处理及边缘细胞培养 | 第34页 |
| 4．1．3 实验设计 | 第34-35页 |
| 4．1．4 检测方法 | 第35页 |
| 4．1．5 数据处理 | 第35页 |
| 4．2 结果与分析 | 第35-39页 |
| 4．2．1 硼对豌豆生长和根边缘细胞的影响 | 第35-36页 |
| 4．2．2 硼铝对豌豆生长和根边缘细胞的影响 | 第36-38页 |
| 4．2．3 硼铝对根边缘细胞粘胶层的影响 | 第38-39页 |
| 4．3 讨论 | 第39-40页 |
| 5 总讨论 | 第40-44页 |
| 5．1 根边缘细胞培养方法 | 第40页 |
| 5．2 硼对根边缘细胞影响 | 第40-41页 |
| 5．3 根边缘细胞在植物抗铝毒机理中作用 | 第41-42页 |
| 5．4 硼减轻铝毒机理 | 第42-44页 |
| 5．4．1 机理一:硼对细胞促进作用—稳定根边缘细胞数量和提高细胞存活率 | 第42-43页 |
| 5．4．2 机理二:硼促进钙与细胞壁的牢固结合，减少细胞壁元素的释放，抑制铝交换钙，保持细胞壁的稳定性 | 第43页 |
| 5．4．3 机理三:细胞对铝毒的反应机制一粘胶层的分泌 | 第43-44页 |
| 6 结论 | 第44-45页 |
| 7 需进一步研究的问题 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 发表论文 | 第52页 |
