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基于DDS+PLL技术的高性能频率源研究与实现

摘要第1-9页
ABSTRACT第9-10页
第一章 绪论第10-15页
 §1.1 引言第10-11页
 §1.2 频率合成概述第11-13页
  1.2.1 频率合成概念第11页
  1.2.2 频率合成主要技术指标第11-13页
 §1.3 频率合成技术的发展第13-15页
第二章 PLL频率合成技术性能研究第15-27页
 §2.1 PLL频率合成的原理与组成第15-21页
  2.1.1 PLL频率合成的原理第15页
  2.1.2 PLL频率合成的组成第15-20页
  2.1.3 PLL的数学模型第20-21页
 §2.2 PLL的相位噪声特性分析第21-26页
  2.2.1 概述第21页
  2.2.2 PLL环路噪声抑制特性第21-24页
  2.2.3 PLL相位噪声的来源第24-25页
  2.2.4 PLL最佳环路带宽设计第25-26页
 §2.3 PLL的杂散特性分析第26-27页
第三章 DDS频率合成技术性能研究第27-38页
 §3.1 DDS频率合成的原理与结构第27-31页
  3.1.1 DDS的原理第27-29页
  3.1.2 DDS的结构第29-30页
  3.1.3 DDS的工作特点第30-31页
 §3.2 DDS的理想输出频谱第31-32页
 §3.3 DDS的杂散特性分析第32-36页
  3.3.1 相位截断产生的杂散第32-34页
  3.3.2 幅度量化产生的杂散第34页
  3.3.3 DAC转换误差带来的杂散第34-35页
  3.3.4 其他噪声源带来的杂散第35-36页
 §3.4 DDS的相位噪声特性分析第36-38页
第四章 DDS+PLL频率合成系统设计第38-48页
 §4.1 系统指标要求第38页
 §4.2 DDS+PLL频率合成原理第38-40页
  4.2.1 DDS激励PLL频率合成器系统第39-40页
  4.2.2 DDS混频PLL频率合成器系统第40页
 §4.3 DDS+PLL频率合成系统的确定第40-42页
 §4.4 系统主要器件的性能及参数设置第42-48页
  4.4.1 DDS芯片性能及参数设置第42-45页
  4.4.2 频率合成芯片性能及参数设置第45-47页
  4.3.3 压控振荡器的性能第47-48页
第五章 DDS+PLL系统方案的具体实施第48-69页
 §5.1 单片机控制系统的设计第48-54页
  5.1.1 AT89C系列单片机原理第48页
  5.1.2 单片机控制的运用第48-50页
  5.1.3 单片机控制程序第50-54页
 §5.2 DDS+PLL系统杂散抑制方法第54-55页
 §5.3 DDS+PLL系统相位噪声降低方法第55-61页
  5.3.1 环路滤波器参数的设计第55-58页
  5.3.2 电源滤波及屏蔽第58-61页
 §5.4 系统电路图及相噪和杂散的测量第61-64页
  5.4.1 系统设计电路图第61-63页
  5.4.2 系统相位噪声和杂散的测量第63-64页
 §5.5 设计中遇到的实际问题及解决方法第64-67页
  5.5.1 在DDS设计中遇到的问题第64-65页
  5.5.2 PCB电路板的设计第65-67页
 §5.6 设计的改进建议及方案第67-69页
  5.6.1 采用DDS内插PLL的改进方案第67页
  5.6.2 采用其它DDS器件的设计方案第67-69页
结束语第69-70页
致谢第70-71页
攻读硕士学位期间发表与撰写的论文第71-72页
参考文献第72-74页
附录第74-79页

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