光控型全光开关研究
| 第一章 绪论 | 第1-27页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·光开关的主要应用领域: | 第11-13页 |
| ·光开关的研究方法及其目标 | 第13页 |
| ·光开关的研究现状 | 第13-24页 |
| ·常用光开关类型及特点 | 第13-18页 |
| ·皮秒级光控光开关的研究进展 | 第18-24页 |
| ·本研究的目的和内容 | 第24页 |
| 参考文献 | 第24-27页 |
| 第二章 半导体光致折射率研究 | 第27-38页 |
| ·、 引言 | 第27页 |
| ·、 光生载流子影响折射率变化模型 | 第27-30页 |
| ·、 自由载流子吸收效应 | 第28页 |
| ·、 带填充效应 | 第28-29页 |
| ·、 最终模型 | 第29-30页 |
| ·、 稳态光注入下的光致折变模型 | 第30-33页 |
| ·、 稳态光注入模型 | 第30-31页 |
| ·、 折射率变化的空间分布 | 第31-32页 |
| ·、 折射率变化的时间响应 | 第32-33页 |
| ·、 瞬态(高斯光)注入下的光致折变模型 | 第33-37页 |
| ·、 瞬态(高斯光)注入模型 | 第33-35页 |
| ·、 折射率变化的计算及分析 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-38页 |
| 第三章 光控型全光开关设计 | 第38-49页 |
| ·、 引言 | 第38页 |
| ·、 全内反射原理 | 第38-39页 |
| ·、 非对称Y分叉全内反射型全光开关 | 第39-43页 |
| ·传统Y分叉的分析 | 第39-40页 |
| ·展宽Y分叉参数分析 | 第40-42页 |
| ·器件最终设计 | 第42-43页 |
| ·、 光注入X结GAAS全光开关的设计 | 第43-46页 |
| ·器件原理 | 第43-44页 |
| ·器件设计及模拟 | 第44-46页 |
| ·、 其他结构的光控型器件设计 | 第46-48页 |
| ·耦合型光控器件的简单设计 | 第46-47页 |
| ·BOA型光开关器件的简单设计 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 第四章 器件制作工艺研究 | 第49-68页 |
| ·、 材料选择与制备 | 第49-52页 |
| ·、 MOVPE生长GaAs等材料的反应机理 | 第49-50页 |
| ·、 MOVPE生长GaAs及其影响因素 | 第50-52页 |
| ·、 晶片抛光及清晰 | 第52-55页 |
| ·抛光 | 第52-53页 |
| ·清洗 | 第53-55页 |
| ·、 蒸铝及光刻工艺 | 第55-62页 |
| ·蒸铝 | 第55-56页 |
| ·光刻 | 第56-62页 |
| ·、 具体制作流程及相关工艺参数 | 第62-67页 |
| ·GaAs晶片消洗 | 第62-63页 |
| ·器件制作方法 | 第63-64页 |
| ·工艺流程及工艺参数 | 第64-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第五章 器件的测试及其结果 | 第68-76页 |
| ·、 引言 | 第68页 |
| ·、 测试系统的建立 | 第68-69页 |
| ·、 测试结果及性能分析 | 第69-75页 |
| ·非对称Y分叉全内反射型全光开关性能分析 | 第69-70页 |
| ·耦合型全光开关 | 第70-72页 |
| ·M-Z结构光注入实验 | 第72-75页 |
| 参考文献 | 第75-76页 |
| 第六章 总结与展望 | 第76-84页 |
| ·、 总结 | 第76-79页 |
| ·理论模型 | 第76-78页 |
| ·器件设计与制作 | 第78-79页 |
| ·测试系统 | 第79页 |
| ·展望 | 第79-83页 |
| 参考文献 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 附录: 攻读硕士期间发表和待发表的论文 | 第85页 |
