| 第一章 序言 | 第1-20页 |
| 1-1 有机官能团硅烷概述 | 第10-12页 |
| 1-2 金属表面有机官能团硅烷膜的研究现状 | 第12-14页 |
| 1-3 本论文的目的和设想 | 第14-17页 |
| 参考文献 | 第17-20页 |
| 第二章 研究方法简介 | 第20-34页 |
| 2-1 拉曼光谱技术 | 第20-27页 |
| 2-1-1 光散射现象 | 第20-22页 |
| 2-1-2 拉曼散射效应 | 第22-23页 |
| 2-1-3 表面增强拉曼散射效应与机理 | 第23-27页 |
| 2-2 X-射线光电子能谱技术 | 第27-29页 |
| 2-3 原子力显微镜技术 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-34页 |
| 第三章 实验 | 第34-41页 |
| 3-1 试剂 | 第34页 |
| 3-2 电极材料 | 第34页 |
| 3-3 电解池 | 第34-36页 |
| 3-4 仪器 | 第36-41页 |
| 第四章 各种金属表面γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜的研究 | 第41-59页 |
| 4-1 电极表面处理和γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜的制备 | 第41-44页 |
| 4-1-1 电极表面处理 | 第41-42页 |
| 4-1-2 γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜的制备方法 | 第42-44页 |
| 4-2 过渡金属表面γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜的研究 | 第44-56页 |
| 4-2-1 γ-氨丙基三甲氧基硅烷的常规拉曼光谱及谱峰归属 | 第44-47页 |
| 4-2-2 镍电极表面的γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜 | 第47-53页 |
| 4-2-3 铁电极表面的γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜 | 第53-56页 |
| 4-3 币族金属表面γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜的研究 | 第56-57页 |
| 本章小结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第五章 金属表面γ-氨丙基三甲氧基硅烷吸附的影响因素 | 第59-71页 |
| 5-1 电极电位和支持电解质的影响 | 第59-62页 |
| 5-1-1 电位变化对γ-氨丙基三甲氧基硅烷吸附的影响 | 第59-61页 |
| 5-1-2 支持电解质对γ-氨丙基三甲氧基硅烷吸附的影响 | 第61-62页 |
| 5-2 表面粗糙度和膜制备方法(浓度、时间)的影响 | 第62-65页 |
| 5-2-1 表面粗糙度对γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜的影响 | 第62-63页 |
| 5-2-2 制备方法对γ-氨丙基三甲氧基硅烷膜的影响 | 第63-65页 |
| 5-3 γ-氨丙基三甲氧基硅烷在金属表面吸附机理初探 | 第65-69页 |
| 本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-71页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表与交流论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
