| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-20页 |
| ·纳米材料概述 | 第10-14页 |
| ·纳米材料的基本物理特性 | 第11-12页 |
| ·纳米材料的制备方法 | 第12-14页 |
| ·纳米陶瓷概述 | 第14-16页 |
| ·纳米陶瓷 | 第15页 |
| ·纳米陶瓷的制备方法 | 第15-16页 |
| ·纳米陶瓷的应用前景 | 第16页 |
| ·氧化铝纳米陶瓷研究现状 | 第16-17页 |
| ·本论文的选题依据和研究内容 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-20页 |
| 第二章 纳米颗粒的表征技术 | 第20-26页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第20-21页 |
| ·傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第21-22页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第22-23页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)及选区电子衍射(SAED) | 第23-24页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第23页 |
| ·选区电子衍射(SAED) | 第23-24页 |
| ·热分析 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-26页 |
| 第三章 非水溶液制备氧化铝纳米颗粒及前驱体的表面修饰 | 第26-41页 |
| ·概述 | 第26-27页 |
| ·实验准备 | 第27-28页 |
| ·具体实验过程 | 第28页 |
| ·样品的表征分析 | 第28-38页 |
| ·最佳修饰比的选择 | 第28-29页 |
| ·修饰条件的选择 | 第29-30页 |
| ·修饰前后样品的TEM表征 | 第30-31页 |
| ·修饰前后样品的FTIR表征 | 第31-32页 |
| ·修饰前后样品的XRD表征 | 第32-34页 |
| ·修饰前后样品的TGA分析 | 第34-35页 |
| ·修饰前后样品煅烧后的TEM表征 | 第35-36页 |
| ·不同反应物浓度下所得修饰后样品经煅烧后的SEM表征 | 第36-37页 |
| ·修饰后样品煅烧后的SEM表征 | 第37页 |
| ·陶瓷胚体的SEM表征 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第四章 具有多孔结构的氧化铝纳米颗粒的制备与表征 | 第41-56页 |
| ·概述 | 第41-42页 |
| ·实验准备 | 第42-43页 |
| ·具体制备过程 | 第43-44页 |
| ·Al(OH)_3纳米颗粒的制备过程 | 第43页 |
| ·实验过程中的影响因素 | 第43-44页 |
| ·产物的表征分析 | 第44-51页 |
| ·前驱体的形貌表征 | 第44-46页 |
| ·FTIR表征 | 第46-47页 |
| ·XRD表征 | 第47-48页 |
| ·煅烧后样品的形貌表征 | 第48-51页 |
| ·γ-Al2O_3的孔径分布 | 第51-52页 |
| ·机理讨论 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 第五章 多元醇回流制备α-Al_2O)3纳米颗粒 | 第56-63页 |
| ·概述 | 第56页 |
| ·实验准备 | 第56-57页 |
| ·具体实验过程 | 第57页 |
| ·所得产物的表征分析 | 第57-61页 |
| ·FTIR表征 | 第57-58页 |
| ·XRD表征 | 第58-59页 |
| ·TG-DTA分析 | 第59-60页 |
| ·SEM表征 | 第60页 |
| ·陶瓷胚体的SEM表征 | 第60-61页 |
| ·小结 | 第61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 第六章 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63-64页 |
| ·展望 | 第64-65页 |
| 在学期间的研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
