ECR等离子体辅助原子层沉积Al2O3薄膜的研究及其参数诊断
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| ·微波ECR等离子体技术 | 第9-17页 |
| ·超薄氧化铝薄膜的制备方法和应用 | 第17-24页 |
| ·本科题研究背景和意义 | 第24页 |
| ·本课题研究内容 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第二章 实验装置和氧化铝薄膜性能表征 | 第29-41页 |
| ·微波ECR等离子体实验装置 | 第29-33页 |
| ·微波ECR放电工艺参数设定 | 第33页 |
| ·氧化铝薄膜制备的工艺流程 | 第33-34页 |
| ·薄膜的分析检测和表征方法 | 第34-39页 |
| ·本章小结 | 第39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第三章 微波ECR装置的参数测量 | 第41-66页 |
| ·磁场分布 | 第42-43页 |
| ·等离子体参数诊断方法及原理 | 第43-50页 |
| ·等离子体参数分布特性 | 第50-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 第四章 超薄氧化铝薄膜的沉积 | 第66-88页 |
| ·薄膜的制备 | 第66-67页 |
| ·薄膜的特性表征 | 第67-71页 |
| ·等离子体工艺参数对薄膜结构的影响 | 第71-80页 |
| ·退火对薄膜结构的影响 | 第80-83页 |
| ·ALD Al_2O_3薄膜可能的沉积机理 | 第83-86页 |
| ·本章小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-88页 |
| 第五章 总结和展望 | 第88-91页 |
| ·本文主要研究成果与结论 | 第88-89页 |
| ·本文的创新之处 | 第89-90页 |
| ·进一步工作展望 | 第90-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表及待发表的论文 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
