中红外激光薄膜的研究与制备
| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 目次 | 第11-14页 |
| 1 绪论 | 第14-30页 |
| ·光学薄膜的发展 | 第14-15页 |
| ·高功率激光薄膜 | 第15-16页 |
| ·激光薄膜损伤问题 | 第16-20页 |
| ·雪崩电离和多光子吸收理论 | 第16-17页 |
| ·热应力耦合损伤理论 | 第17-18页 |
| ·缺陷损伤理论 | 第18-20页 |
| ·中红外激光薄膜的发展与研究现状 | 第20-27页 |
| ·中红外激光薄膜的研究背景 | 第20-21页 |
| ·中红外激光薄膜的研究现状 | 第21-27页 |
| ·本论文研究内容以及创新点 | 第27-30页 |
| 2 激光薄膜相关理论分析方法 | 第30-40页 |
| ·前言 | 第30页 |
| ·时域有限差分法 | 第30-33页 |
| ·矩阵传输理论 | 第33-35页 |
| ·高斯光束频谱展开法 | 第35-37页 |
| ·薄膜热场模型 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 3 中红外激光薄膜热场研究 | 第40-48页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·中红外高反膜热场分析 | 第40-46页 |
| ·激光入射角度与偏振态对热场分布的影响 | 第40-44页 |
| ·三种高反膜热场分布的比较 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 4 节瘤缺陷对薄膜的场增强效应研究 | 第48-58页 |
| ·前言 | 第48页 |
| ·节瘤缺陷的形态与成因 | 第48-50页 |
| ·节瘤缺陷的场增强效应 | 第50-56页 |
| ·种子大小和深度的对场强影响 | 第52-53页 |
| ·激光入射角度对场增强的影响 | 第53-55页 |
| ·激光偏振态对场增强的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 5 红外薄膜材料特性与工艺研究 | 第58-70页 |
| ·前言 | 第58页 |
| ·材料选择 | 第58-59页 |
| ·材料的光学性能研究 | 第59-65页 |
| ·YbF_3 | 第59-62页 |
| ·ZnS和ZnSe | 第62-65页 |
| ·薄膜的缺陷控制 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 6 红外薄膜的应力研究 | 第70-84页 |
| ·前言 | 第70-72页 |
| ·薄膜应力测量方法 | 第72-74页 |
| ·薄膜应力分析系统 | 第74-76页 |
| ·材料应力特性分析 | 第76-82页 |
| ·YbF_3薄膜的应力分析 | 第76-79页 |
| ·ZnSe薄膜的应力分析 | 第79-82页 |
| ·薄膜的应力匹配 | 第82-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 7 红外薄膜元件的设计与制备 | 第84-100页 |
| ·引言 | 第84页 |
| ·OPO激光腔镜 | 第84-89页 |
| ·多波段晶体减反膜 | 第89-91页 |
| ·三光合一系统中的多波段分束镜 | 第91-97页 |
| ·可见光+激光/长波红外分光镜 | 第91-95页 |
| ·红外短波/长波分束镜 | 第95-97页 |
| ·薄膜环境试验和牢固性试验 | 第97-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 8 中红外薄膜抗激光损伤能力研究 | 第100-112页 |
| ·前言 | 第100-101页 |
| ·薄膜激光损伤阈值测试方法 | 第101-102页 |
| ·损伤阈值测试的相关定义 | 第101页 |
| ·损伤阈值测试系统 | 第101-102页 |
| ·中红外激光损伤阈值测试系统的搭建及参数测量 | 第102-107页 |
| ·测试系统结构 | 第102-104页 |
| ·系统参数测量 | 第104-107页 |
| ·损伤测试过程及结果 | 第107-109页 |
| ·损伤测试过程 | 第107-108页 |
| ·损伤测试结果 | 第108-109页 |
| ·本章小结 | 第109-112页 |
| 9 总结和展望 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-124页 |
| 作者简历 | 第124页 |
| 攻读博士学位期间发表文章目录 | 第124-125页 |
