| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 ZnO综述 | 第10-19页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·ZnO的光学和电学性质 | 第11-12页 |
| ·ZnO的其他性质及应用 | 第12-13页 |
| ·紫外探测器 | 第12页 |
| ·压敏特性 | 第12页 |
| ·ZnO发光二极管 | 第12-13页 |
| ·作为GaN的缓冲层 | 第13页 |
| ·ZnO的研究现状及前景 | 第13-14页 |
| ·薄膜制备技术概论 | 第14-19页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第14-15页 |
| ·喷涂热分解(Spray Pyrolysis) | 第15-16页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第16页 |
| ·溶胶—凝胶(Sol-Gel) | 第16页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第16-17页 |
| ·电子束反应蒸镀法(Reactive Electron Beam Evaporation) | 第17页 |
| ·磁控溅射法 | 第17-19页 |
| 2 ZnO薄膜的制备及分析方法 | 第19-30页 |
| ·ZnO薄膜制备方法 | 第19-23页 |
| ·PLD法制备ZnO薄膜的基本原理 | 第19-21页 |
| ·PLD方法的特点 | 第21-22页 |
| ·实验设备简介 | 第22-23页 |
| ·薄膜的分析方法 | 第23-30页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第23-24页 |
| ·透射光谱测量 | 第24-26页 |
| ·光致荧光光谱(PL) | 第26-28页 |
| ·霍尔效应(Hall) | 第28-30页 |
| 3 不同沉积温度下蓝宝石基片上ZnO薄膜的制备及表征 | 第30-41页 |
| ·ZnO薄膜的制备及分析方法 | 第30-31页 |
| ·ZnO薄膜的制备过程 | 第30页 |
| ·ZnO薄膜的结晶特性研究和光电性能分析 | 第30-31页 |
| ·实验结果与分析 | 第31-39页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜结晶质量的影响 | 第31-35页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜光电性能的影响 | 第35-37页 |
| ·ZnO薄膜的低温光谱分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 4 不同沉积温度下Si基片上ZnO薄膜的制备及表征 | 第41-52页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第41-45页 |
| ·ZnO薄膜的结构特性 | 第42-44页 |
| ·ZnO薄膜的表面形貌 | 第44-45页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜光电性能的影响 | 第45-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 5 氮化处理的蓝宝石基片上ZnO薄膜的制备及表征 | 第52-60页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·氮化处理的蓝宝石基片上ZnO薄膜的晶体结构 | 第53-54页 |
| ·氮化处理的蓝宝石基片上ZnO薄膜的光谱研究 | 第54-57页 |
| ·ZnO薄膜的透射光谱研究 | 第54-57页 |
| ·ZnO薄膜的PL光谱研究 | 第57页 |
| ·氮化处理的蓝宝石基片上ZnO薄膜的电学性能研究 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
