| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-15页 |
| ·等离子体基本理论概述 | 第7-10页 |
| ·离子注入技术 | 第10-13页 |
| ·一般束线离子注入 | 第11页 |
| ·等离子体源离子注入技术简介 | 第11-13页 |
| ·等离子体源离子注入技术的发展 | 第13-14页 |
| ·本文工作简介 | 第14-15页 |
| 第二章 等离子体源离子注入过程中鞘层演化的研究方法 | 第15-21页 |
| ·PSII鞘层时空演化的物理描述 | 第15页 |
| ·等离子体源离子注入过程中鞘层演化的研究方法 | 第15-18页 |
| ·解析法 | 第15-16页 |
| ·流体动力学法 | 第16-17页 |
| ·Monte Carlo方法 | 第17页 |
| ·PIC方法 | 第17-18页 |
| ·PSII过程中流体动力学计算方法 | 第18-21页 |
| 第三章 等离子体源离子注入半圆形容器过程中离子动力学数值模拟 | 第21-31页 |
| ·模型过程简介 | 第21页 |
| ·模型模拟过程 | 第21-23页 |
| ·PIC计算机模拟结果 | 第23-29页 |
| ·小结 | 第29-31页 |
| 第四章 等离子体源离子注入半圆形容器离子能量和角度分布 | 第31-39页 |
| ·模型的建立和假设 | 第31-32页 |
| ·Monte Carlo计算机模拟 | 第32-35页 |
| ·电场的分布 | 第32页 |
| ·计算机模拟过程 | 第32-35页 |
| ·Monte Carlo计算机模拟结果 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-39页 |
| 第五章 结论 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
