| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 插图索引 | 第12-15页 |
| 插表索引 | 第15-16页 |
| 第1章 绪论 | 第16-34页 |
| ·选题背景及意义 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化技术概述 | 第17-20页 |
| ·微弧氧化的特点 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化的机理 | 第18-20页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层制备调控的研究现状 | 第20-27页 |
| ·微弧氧化工艺参数中的电参数 | 第20-23页 |
| ·微弧氧化工艺参数中的非电参数 | 第23-27页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层表征方法的研究现状 | 第27-32页 |
| ·本文涉及到的镁合金微弧氧化膜层的表征 | 第27页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层特征参量及性能表征方法的研究现状 | 第27-32页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层特征参量表征方法的研究现状 | 第27-30页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层性能表征方法的研究现状 | 第30-32页 |
| ·本论文的主要内容、目的及创新点 | 第32-34页 |
| ·本论文研究的主要内容和目的 | 第32-33页 |
| ·本论文的主要创新点 | 第33-34页 |
| 第2章 微弧氧化工艺参数对膜层的影响 | 第34-71页 |
| ·实验方法 | 第34-38页 |
| ·镁合金试样的制备和选取 | 第34-35页 |
| ·实验设备及性能检测 | 第35页 |
| ·实验方案 | 第35-38页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜层的影响 | 第38-47页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜层特征参量的影响 | 第38-43页 |
| ·氧化时间对膜层厚度、粗糙度、表面孔隙率和孔径的影响 | 第38-41页 |
| ·氧化时间对膜层表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·氧化时间对膜层相组成的影响 | 第42-43页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜层性能的影响 | 第43-47页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜层结合力和耐磨性的影响 | 第43-45页 |
| ·氧化时间对微弧氧化膜层耐蚀性的影响 | 第45-47页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层的影响 | 第47-54页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层特征参量的影响 | 第47-51页 |
| ·电流密度对膜层厚度、粗糙度、表面孔隙率和孔径的影响 | 第47-49页 |
| ·电流密度对膜层表面形貌的影响 | 第49-50页 |
| ·电流密度对膜层相组成的影响 | 第50-51页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层性能的影响 | 第51-54页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层结合力和耐磨性的影响 | 第51-52页 |
| ·电流密度对微弧氧化膜层耐蚀性的影响 | 第52-54页 |
| ·加压幅度对微弧氧化膜层的影响 | 第54-61页 |
| ·加压幅度对微弧氧化膜层特征参量的影响 | 第54-58页 |
| ·加压幅度对膜层厚度、粗糙度、表面孔隙率和孔径的影响 | 第54-56页 |
| ·加压幅度对膜层表面形貌的影响 | 第56-57页 |
| ·加压幅度对膜层相组成的影响 | 第57-58页 |
| ·加压幅度对微弧氧化膜层性能的影响 | 第58-61页 |
| ·加压幅度对微弧氧化膜层结合力的影响 | 第58-60页 |
| ·加压幅度对微弧氧化膜层耐蚀性的影响 | 第60-61页 |
| ·加压时间间隔对微弧氧化膜层的影响 | 第61-69页 |
| ·加压时间间隔对微弧氧化膜层特征参量的影响 | 第61-66页 |
| ·加压时间间隔对膜层厚度、粗糙度、表面孔隙率和孔径的影响 | 第61-64页 |
| ·加压时间间隔对膜层表面形貌的影响 | 第64-65页 |
| ·加压时间间隔对膜层相组成的影响 | 第65-66页 |
| ·加压时间间隔对微弧氧化膜层性能的影响 | 第66-69页 |
| ·加压时间间隔对微弧氧化膜层结合力及耐磨性的影响 | 第66-67页 |
| ·加压时间间隔对微弧氧化膜层耐蚀性的影响 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第3章 微弧氧化膜层制备的调控原则 | 第71-93页 |
| ·研究方法 | 第71页 |
| ·微弧氧化膜层性能与微弧氧化工艺参数的关系 | 第71-76页 |
| ·微弧氧化膜层结合力对应的微弧氧化工艺参数 | 第71-72页 |
| ·微弧氧化膜层较好耐蚀性对应的微弧氧化工艺参数 | 第72-74页 |
| ·微弧氧化膜层耐磨性对应的微弧氧化工艺参数 | 第74-76页 |
| ·微弧氧化膜层性能与膜层特征参量的关系 | 第76-86页 |
| ·微弧氧化膜层结合力对应的膜层特征参量 | 第76-79页 |
| ·微弧氧化膜层较好耐蚀性对应的膜层特征参量 | 第79-81页 |
| ·微弧氧化膜层耐磨性对应的膜层特征参量 | 第81-86页 |
| ·微弧氧化膜层的特征参量与微弧氧化工艺参数的关系 | 第86-91页 |
| ·微弧氧化膜层厚度对应的微弧氧化工艺参数 | 第86-88页 |
| ·微弧氧化膜层粗糙度对应的膜层工艺参数 | 第88-89页 |
| ·微弧氧化膜层孔隙率对应的膜层工艺参数 | 第89-91页 |
| ·制备微弧氧化膜层的工艺调控原则 | 第91-93页 |
| 第4章 微弧氧化膜层制备调控原则的验证 | 第93-108页 |
| ·实验材料、设备及制备工艺 | 第93-95页 |
| ·镁合金试样的制备和选取 | 第93页 |
| ·微弧氧化实验设备 | 第93-94页 |
| ·微弧氧化膜层的性能表征 | 第94页 |
| ·实验方案 | 第94-95页 |
| ·实验结果与分析 | 第95-107页 |
| ·微弧氧化膜层特征参量调控原则的验证 | 第95-100页 |
| ·微弧氧化膜层厚度、粗糙度、表面孔隙率及孔径调控原则的验证 | 第95-100页 |
| ·微弧氧化膜层性能调控原则的验证 | 第100-107页 |
| ·微弧氧化膜层结合力调控原则的验证 | 第100-102页 |
| ·微弧氧化膜层耐蚀性调控原则的验证 | 第102-104页 |
| ·微弧氧化膜层耐磨性调控原则的验证 | 第104-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第5章 微弧氧化膜层表征方法的研究 | 第108-145页 |
| ·实验材料、设备及制备工艺 | 第108-109页 |
| ·镁合金试样的制备和选取 | 第108页 |
| ·微弧氧化实验设备 | 第108页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层制备的工艺 | 第108-109页 |
| ·微弧氧化膜层结构的表征方法 | 第109-131页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层厚度的表征 | 第109-115页 |
| ·微弧氧化膜层厚度的表征方法 | 第109-110页 |
| ·微弧氧化膜层厚度的涡流测厚法表征 | 第110-112页 |
| ·微弧氧化膜层厚度的截面法表征 | 第112-115页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层微观结构的表征 | 第115-129页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层表面形貌表征 | 第115-116页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层表面孔隙率及孔径的表征 | 第116-121页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层体积孔隙率的表征 | 第121-129页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层粗糙度的表征 | 第129-131页 |
| ·实验方法 | 第129页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层粗糙度表征的结果 | 第129-131页 |
| ·微弧氧化膜层性能的表征方法 | 第131-143页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层结合力的表征 | 第131-137页 |
| ·实验方法 | 第131-132页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层结合力表征的结果 | 第132-136页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层结合力表征方法的特点 | 第136-137页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层硬度的表征 | 第137-143页 |
| ·实验方法 | 第137-139页 |
| ·镁合金微弧氧化膜层硬度表征的结果 | 第139-143页 |
| ·本章小结 | 第143-145页 |
| 结论 | 第145-147页 |
| 参考文献 | 第147-155页 |
| 致谢 | 第155-156页 |
| 附录A 攻读博士学位期间发表论文及研究成果 | 第156-157页 |
