镁合金微弧氧化微区电弧放电机理及电源特性的研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-15页 |
| 插图索引 | 第15-18页 |
| 插表索引 | 第18-19页 |
| 第1章 绪论 | 第19-36页 |
| ·问题的提出 | 第19-22页 |
| ·镁合金的耐蚀性问题 | 第19-20页 |
| ·提高镁合金耐蚀性的方法 | 第20-22页 |
| ·微弧氧化技术的特点 | 第22页 |
| ·微弧氧化技术的研究现状 | 第22-32页 |
| ·国外微弧氧化工艺研究现状 | 第22-24页 |
| ·国内微弧氧化技术研究现状 | 第24-26页 |
| ·有关微弧氧化机理的研究 | 第26-28页 |
| ·有关微弧氧化负载特性的研究 | 第28-29页 |
| ·微弧氧化电源的研究发展概况 | 第29-32页 |
| ·研究内容及技术路线 | 第32-36页 |
| ·研究内容及目标 | 第32-34页 |
| ·研究的技术路线 | 第34-36页 |
| 第2章 微弧氧化实验平台构建 | 第36-44页 |
| ·微弧氧化实验平台构建 | 第36-41页 |
| ·实验平台构成 | 第36-38页 |
| ·控制系统概述 | 第38-41页 |
| ·实验材料及方法 | 第41-43页 |
| ·实验材料及试样制备方法 | 第41-42页 |
| ·主要分析及检测方法 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 微区电弧放电机理及模型研究 | 第44-73页 |
| ·微弧氧化过程的3 个阶段 | 第44-50页 |
| ·直流电源下的微弧氧化 | 第44-46页 |
| ·单极性脉冲电源下的实验 | 第46-48页 |
| ·双极性脉冲电源下的实验 | 第48-50页 |
| ·微区电弧放电机理及模型 | 第50-55页 |
| ·气体放电理论 | 第50-52页 |
| ·微区电弧放电机理和模型 | 第52-55页 |
| ·基于放电模型的重要推论与验证 | 第55-60页 |
| ·起弧电压的本质及影响因素 | 第55-57页 |
| ·大弧产生的原因和影响因素 | 第57-59页 |
| ·微弧氧化电源的基本要求 | 第59-60页 |
| ·双极性电源负电压的作用和影响 | 第60-63页 |
| ·负电压的作用 | 第60-62页 |
| ·负电压的影响 | 第62-63页 |
| ·镁合金微弧氧化成膜过程分析 | 第63-71页 |
| ·膜层生长过程与机理 | 第63-65页 |
| ·不同生长时期膜层的表面形貌 | 第65-69页 |
| ·热力学和动力学分析 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第4章 负载特性及新型电源模式研究 | 第73-85页 |
| ·微弧氧化的负载特性 | 第73-81页 |
| ·微弧氧化负载等效电路模型 | 第73-76页 |
| ·负载模型的仿真模拟 | 第76-80页 |
| ·负载阻抗随处理时间的变化规律 | 第80-81页 |
| ·一种新的微弧氧化电源模式 | 第81-83页 |
| ·微弧氧化电源负载适应性要求 | 第81-82页 |
| ·带放电回路的脉冲电源模式 | 第82-83页 |
| ·本章小结 | 第83-85页 |
| 第5章 电源模式及参数对微弧氧化的影响 | 第85-98页 |
| ·两种电源模式的比较研究 | 第85-92页 |
| ·过程稳定性比较 | 第85-86页 |
| ·成膜速率比较 | 第86-88页 |
| ·膜层组织结构及形貌比较 | 第88-90页 |
| ·膜层耐蚀性比较 | 第90-92页 |
| ·电源加载方式及参数的影响 | 第92-97页 |
| ·电压增量加载 | 第92-95页 |
| ·恒定电流加载 | 第95-96页 |
| ·过程控制方案 | 第96-97页 |
| ·参数的合理取值范围 | 第97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 第6章 新型大功率微弧氧化脉冲电源研制 | 第98-125页 |
| ·脉冲电源主电路设计 | 第98-102页 |
| ·电源主电路及主要技术指标 | 第98-99页 |
| ·IGBT 的并联、均流及保护 | 第99-101页 |
| ·保护电路及抗干扰措施 | 第101-102页 |
| ·电源控制系统电路设计 | 第102-112页 |
| ·单片机系统电路 | 第102-104页 |
| ·信号采样电路 | 第104-105页 |
| ·同步数字移相电路 | 第105-108页 |
| ·SCR 触发电路 | 第108-109页 |
| ·IGBT 驱动电路 | 第109-112页 |
| ·电源控制系统软件 | 第112-114页 |
| ·输出脉冲波形调制 | 第112-113页 |
| ·输出特性的PID 调节算法 | 第113-114页 |
| ·过程控制系统及人机界面 | 第114-123页 |
| ·单片机系统电路 | 第114-118页 |
| ·串行接口及通讯协议 | 第118-119页 |
| ·微弧氧化过程控制软件 | 第119-122页 |
| ·电源设备的试运行 | 第122-123页 |
| ·本章小结 | 第123-125页 |
| 结论 | 第125-128页 |
| 创新之处和尚需深入研究之处 | 第128-129页 |
| 参考文献 | 第129-137页 |
| 致谢 | 第137-138页 |
| 附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第138页 |
