外泌体分离的流—场流微流控器件研制
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 课题的提出及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 外泌体概述 | 第11-12页 |
| 1.3 传统外泌体分离方法及现状 | 第12-14页 |
| 1.4 外泌体检测方法 | 第14-16页 |
| 1.4.1 显微镜类方法 | 第14-15页 |
| 1.4.2 动态光散射 | 第15页 |
| 1.4.3 纳米粒子追踪分析 | 第15页 |
| 1.4.4 蛋白质印迹分析 | 第15-16页 |
| 1.5 基于流场流分离理论的外泌体分离方法 | 第16页 |
| 1.6 本文研究内容 | 第16-18页 |
| 1.6.1 场流分离理论概述 | 第16页 |
| 1.6.2 流场流分离器件的计算机模拟 | 第16-17页 |
| 1.6.3 流场流分离器件的自加工过程 | 第17页 |
| 1.6.4 流场流分离器件的可用性检测 | 第17-18页 |
| 2 场流分离理论 | 第18-29页 |
| 2.1 场流分离经典理论 | 第18-21页 |
| 2.2 流场流分离理论 | 第21-28页 |
| 2.2.1 流体的速度分布 | 第21-22页 |
| 2.2.2 浓度分布 | 第22-23页 |
| 2.2.3 保留率 | 第23-24页 |
| 2.2.4 空时间和保留时间 | 第24-25页 |
| 2.2.5 样品注入,松弛与聚焦 | 第25-28页 |
| 2.3 本章小结 | 第28-29页 |
| 3 流场流分离的Comsol仿真 | 第29-53页 |
| 3.1 实验方案设计 | 第29-38页 |
| 3.1.1 仿真维度以及研究方式 | 第31页 |
| 3.1.2 建立数学模型 | 第31-33页 |
| 3.1.3 流速参数设定 | 第33-35页 |
| 3.1.4 浓度参数设定 | 第35-36页 |
| 3.1.5 瞬态仿真浓度参数设定 | 第36-38页 |
| 3.2 仿真过程 | 第38-41页 |
| 3.2.1 稳态过程 | 第38-40页 |
| 3.2.2 瞬态过程 | 第40-41页 |
| 3.3 仿真结果分析 | 第41-43页 |
| 3.3.1 平衡高度 | 第41页 |
| 3.3.2 传输方程 | 第41-42页 |
| 3.3.3 迁移速度 | 第42页 |
| 3.3.4 传输时间 | 第42-43页 |
| 3.4 影响流场流分离的因素 | 第43-51页 |
| 3.4.1 通道高度 | 第43-46页 |
| 3.4.2 通道长度 | 第46-48页 |
| 3.4.3 通道宽度 | 第48-49页 |
| 3.4.4 组分粒径 | 第49-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 4 流场流分离器件的自加工工艺研究 | 第53-77页 |
| 4.1 器件结构 | 第53-60页 |
| 4.1.1 顶层盖片层 | 第54-55页 |
| 4.1.2 流道形成片层 | 第55-56页 |
| 4.1.3 半透膜层 | 第56-57页 |
| 4.1.4 多孔结构层 | 第57-58页 |
| 4.1.5 底层浅槽层 | 第58-59页 |
| 4.1.6 器件实物 | 第59-60页 |
| 4.2 PDMS简介及加工工艺 | 第60-64页 |
| 4.3 流场流分离器件的气密性优化 | 第64-70页 |
| 4.4 流场流分离器件优化 | 第70-76页 |
| 4.4.1 顶部流道层 | 第71-73页 |
| 4.4.2 多孔结构-半透膜层 | 第73-74页 |
| 4.4.3 底部浅槽层优化 | 第74-75页 |
| 4.4.4 器件整体结构 | 第75-76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-77页 |
| 5 总结 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-82页 |
