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3D NAND FLASH结构与擦写特性仿真研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1.绪论第9-18页
    1.1 研究背景第9-10页
    1.2 非易失性存储器第10-11页
    1.3 闪存的工作原理第11-12页
    1.4 闪存的构架第12-13页
    1.5 闪存发展的瓶颈与未来第13-17页
    1.6 本文的主要内容及其安排第17-18页
2 3DNANDFLASH和存储器可靠性第18-26页
    2.1 3DNANDFlash第18-23页
    2.2 存储器可靠性第23-25页
    2.3 本章小结第25-26页
3 双栅和环栅器件及其组合电容模型第26-35页
    3.1 平面电容模型MATLAB计算第26-30页
    3.2 组合结构电容模型MATLAB计算第30-34页
    3.3 本章小结第34-35页
4.双栅和环栅器件编程和擦除模型仿真第35-48页
    4.1 SilvacoTCAD第35-37页
    4.2 器件建模第37-47页
        4.2.1 双栅结构器件三维模型第37-41页
        4.2.2 环栅结构器件三维模型第41-43页
        4.2.3 多个双栅结构组合模型第43-45页
        4.2.4 多个环栅结构组合模型第45-47页
    4.3 本章小结第47-48页
5.三维存储工艺仿真第48-53页
    5.1 SEMulator3D介绍第48-49页
    5.2 三维存储器制造工艺仿真和电容计算第49-52页
    5.3 本章小结第52-53页
6 总结与展望第53-56页
    6.1 总结第53-54页
    6.2 展望第54-56页
致谢第56-57页
参考文献第57-62页

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