等离子喷涂Nb2O5溅射靶材的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.1.1 课题简介 | 第9-10页 |
| 1.1.2 课题的意义 | 第10页 |
| 1.2 氧化铌薄膜的应用及研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3 磁控溅射及旋转靶材 | 第11-15页 |
| 1.3.1 磁控溅射 | 第11-13页 |
| 1.3.2 溅射靶材及其种类 | 第13页 |
| 1.3.3 溅射靶材的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.3.4 溅射靶材的基本要求 | 第14-15页 |
| 1.4 课题主要研究内容及方法 | 第15-17页 |
| 1.4.1 主要研究内容 | 第15页 |
| 1.4.2 采用的研究方法 | 第15-17页 |
| 第二章 实验材料、方法及设备 | 第17-23页 |
| 2.1 实验材料 | 第17页 |
| 2.2 Nb_2O_5原料粉 | 第17-20页 |
| 2.3 试验方法及设备 | 第20-23页 |
| 2.3.1 氧化铌喷涂粉料的制备 | 第20-21页 |
| 2.3.2 靶材涂层的制备 | 第21-22页 |
| 2.3.3 粉体及涂层组织结构表征 | 第22页 |
| 2.3.4 涂层孔隙率的测定 | 第22-23页 |
| 第三章 氧化铌喷涂喂料的制备及表征 | 第23-33页 |
| 3.1 Nb_2O_5团聚粉末的制备 | 第23-26页 |
| 3.2 氧化铌团聚粉末的烧结 | 第26-30页 |
| 3.2.1 团聚粉烧结后的显微形貌 | 第26-28页 |
| 3.2.2 烧结粉的物相 | 第28-29页 |
| 3.2.3 团聚粉烧结后的粒度分布 | 第29-30页 |
| 3.3 本章小结 | 第30-33页 |
| 第四章 等离子喷涂氧化铌涂层的研究 | 第33-47页 |
| 4.1 Nb_2O_5涂层的喷涂工艺 | 第33-34页 |
| 4.2 Nb_2O_5涂层的组织形貌 | 第34-45页 |
| 4.2.1 涂层相结构及成分 | 第34-36页 |
| 4.2.2 涂层表面形貌 | 第36-38页 |
| 4.2.3 涂层截面形貌 | 第38-40页 |
| 4.2.4 涂层孔隙率 | 第40-45页 |
| 4.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 第五章 大尺寸氧化铌喷涂靶材的制备 | 第47-61页 |
| 5.1 氧化铌靶材的尺寸及技术要求 | 第47-48页 |
| 5.1.1 氧化铌靶材尺寸 | 第47页 |
| 5.1.2 技术要求 | 第47-48页 |
| 5.2 靶材制备设备及工艺路线 | 第48-54页 |
| 5.2.1 制备设备 | 第48-50页 |
| 5.2.2 工艺路线 | 第50-54页 |
| 5.3 底层及靶材涂层组织分析 | 第54-59页 |
| 5.3.1 铜铝合金底层 | 第54-56页 |
| 5.3.2 靶材涂层 | 第56-59页 |
| 5.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第六章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 附录 A | 第69-71页 |
| 附录 B | 第71-72页 |
