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光控基团修饰AIE分子和核酸酶硫代磷酸骨架及功能研究

摘要第3-4页
abstract第4-5页
第1章 引言第10-36页
    1.1 光控脱除保护基第10-15页
        1.1.1 光控脱除保护基概述第10-11页
        1.1.2 邻硝基苄基类及其光解机理第11-12页
        1.1.3 对羟基苯甲酮类及其光解机理第12-13页
        1.1.4 香豆素类及其光解机理第13-14页
        1.1.5 其他光控脱除保护基第14-15页
    1.2 光激活荧光分子及其应用第15-23页
        1.2.1 光激活传统荧光分子第16-18页
        1.2.2 光激活聚集诱导荧光(AIE)分子第18-22页
        1.2.3 光激活荧光蛋白第22-23页
    1.3 光激活生物分子及其应用第23-34页
        1.3.1 光激活生物小分子第23-25页
        1.3.2 光激活多肽或蛋白第25-27页
        1.3.3 光激活核酸第27-34页
    1.4 本论文的研究内容和创新点第34-36页
        1.4.1 研究内容简介第34-35页
        1.4.2 本论文的创新点第35-36页
第2章 DNA适体修饰的包覆有AIE分子的硅纳米传感器第36-58页
    2.1 引言第36-38页
    2.2 实验部分第38-45页
        2.2.1 试剂第38页
        2.2.2 仪器第38-39页
        2.2.3 化合物合成第39-41页
        2.2.4 包覆AIE分子或FITC的硅纳米粒子的合成第41-42页
        2.2.5 DNA共价修饰包覆有AIE分子的硅纳米粒子第42页
        2.2.6 Cy5标记核仁素抗体和DNA第42-43页
        2.2.7 荧光共聚焦显微镜细胞成像实验第43-44页
        2.2.8 流式细胞分析实验第44页
        2.2.9 高效液相色谱检测光激活传感器的分解效率实验第44页
        2.2.10 细胞毒性实验第44-45页
    2.3 结果与讨论第45-57页
        2.3.1 AIE分子的聚集诱导荧光性质第45-46页
        2.3.2 包覆AIE分子的硅纳米粒子的表征第46-49页
        2.3.3 DNA适体修饰包覆有AIE分子的硅纳米粒子的表征第49-51页
        2.3.4 细胞成像及流式细胞分析验证传感器的特异性第51-53页
        2.3.5 共定位细胞成像第53-55页
        2.3.6 光激活传感器的研究第55-57页
    2.4 本章小结第57-58页
第3章 新型光控基团用于DNA合成后硫代磷酸骨架的修饰及对核酸酶活性的调控第58-79页
    3.1 引言第58-60页
    3.2 实验部分第60-65页
        3.2.1 试剂第60-61页
        3.2.2 仪器第61页
        3.2.3 化合物合成第61-63页
        3.2.4 TEEP-OH修饰DNA第63页
        3.2.5 MALDI-TOF质谱样品基质配制第63页
        3.2.6 凝胶电泳实验步骤第63页
        3.2.7 荧光时间曲线监测反应活性实验第63-64页
        3.2.8 凝胶电泳验证催化断裂情况第64页
        3.2.9 细胞成像实验第64-65页
    3.3 结果与讨论第65-77页
        3.3.1 修饰及光照脱除TEEP-OH后DNA的表征第65-67页
        3.3.2 二乙基硫代磷酸模拟DNA硫代磷酸骨架验证反应产物及机理第67-70页
        3.3.3 二乙基硫代磷酸模拟DNA硫代磷酸骨架推测光照脱除机理第70-73页
        3.3.4 修饰TEEP-OH的DNA酶光照前后催化底物断裂活性分析第73-76页
        3.3.5 细胞成像第76-77页
    3.4 本章小结第77-79页
第4章 全文总结第79-81页
参考文献第81-97页
致谢第97-99页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第99-100页

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