| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第9-11页 |
| 1.1.1 化学机械抛光技术国外的发展状况 | 第9-11页 |
| 1.1.2 化学机械抛光技术国内的发展状况 | 第11页 |
| 1.2 化学机械抛光设备概述 | 第11-14页 |
| 1.2.1 化学机械抛光的基本原理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 化学机械抛光设备的结构和功能 | 第12-13页 |
| 1.2.3 抛光头压力控制方式 | 第13-14页 |
| 1.3 化学机械抛光设备的应用 | 第14-15页 |
| 1.4 课题的研究意义 | 第15-16页 |
| 1.5 课题内容安排与研究方法 | 第16-17页 |
| 第二章 抛光头检测平台的研究 | 第17-37页 |
| 2.1 多区抛光头检测平台的结构设计 | 第17-23页 |
| 2.1.1 结构方案一 | 第17-19页 |
| 2.1.2 结构方案二 | 第19页 |
| 2.1.3 方案评审及定稿 | 第19-23页 |
| 2.2 多区抛光头检测平台气路设计 | 第23-31页 |
| 2.2.1 多区抛光头的结构原理 | 第23-24页 |
| 2.2.2 检测平台的气路原理设计 | 第24-26页 |
| 2.2.3 检测平台的气路元件选型 | 第26-31页 |
| 2.3 多区抛光头检测平台的装卸片检测 | 第31-34页 |
| 2.3.1 装卸片检测的意义和要求 | 第31页 |
| 2.3.2 装卸片检测的具体设计 | 第31-34页 |
| 2.4 多区抛光头检测平台的其它功能介绍 | 第34-35页 |
| 2.4.1 多区抛光头工作寿命及损坏方式检测 | 第34页 |
| 2.4.2 多区抛光头装卸片参数检测 | 第34-35页 |
| 2.5 本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 多区抛光头检测平台的抛光压力控制算法设计 | 第37-47页 |
| 3.1 PID控制算法概述 | 第37-41页 |
| 3.1.1 PID控制概述 | 第37页 |
| 3.1.2 PID控制原理 | 第37-39页 |
| 3.1.3 数字PID控制算法 | 第39-41页 |
| 3.2 系统建模与Matlab仿真 | 第41-46页 |
| 3.2.1 Matlab-Simulink仿真概述 | 第41-42页 |
| 3.2.2 气路系统建模 | 第42-44页 |
| 3.2.3 系统仿真 | 第44-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 多区抛光头检测平台抛光压力控制PID整定 | 第47-51页 |
| 4.1 PID整定概述 | 第47-49页 |
| 4.1.1 参数整定的意义 | 第47页 |
| 4.1.2 PID控制器参数整定方法 | 第47-49页 |
| 4.2 抛光头检测平台压力控制PID参数整定 | 第49-50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 附图 | 第57-58页 |