| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-37页 |
| 1.1 重金属污染 | 第11-14页 |
| 1.1.1 重金属污染来源 | 第11-12页 |
| 1.1.2 重金属污染危害 | 第12-13页 |
| 1.1.3 重金属污染现状 | 第13-14页 |
| 1.2 重金属治理方法 | 第14-18页 |
| 1.2.1 化学沉淀法 | 第15页 |
| 1.2.2 电解法 | 第15-16页 |
| 1.2.3 物理吸附法 | 第16-17页 |
| 1.2.4 膜处理法 | 第17页 |
| 1.2.5 生物修复法 | 第17页 |
| 1.2.6 离子印迹聚合物吸附法 | 第17-18页 |
| 1.3 分子印迹聚合物 | 第18-21页 |
| 1.3.1 分子印迹聚合物合成方法 | 第19-20页 |
| 1.3.2 分子印记聚合物在污水处理中的应用 | 第20-21页 |
| 1.4 离子印迹聚合物 | 第21-30页 |
| 1.4.1 离子印迹聚合物的制备机理和吸附机理 | 第21-23页 |
| 1.4.2 离子印迹聚合物类型 | 第23-25页 |
| 1.4.3 离子印迹聚合物的制备方法 | 第25-27页 |
| 1.4.4 离子印迹聚合物的应用 | 第27-28页 |
| 1.4.5 离子印迹聚合物性能研究 | 第28-30页 |
| 1.5 表面离子印迹分聚合物 | 第30-35页 |
| 1.5.1 表面离子印迹聚合物的发展 | 第30-31页 |
| 1.5.2 表面离子印迹聚合物应用 | 第31-32页 |
| 1.5.3 表面离子印迹聚合物的制备方法 | 第32-34页 |
| 1.5.4 表面印迹制备材料的选择 | 第34-35页 |
| 1.6 本课题研究意义和内容 | 第35-37页 |
| 第二章 Cd离子印迹聚合物的合成及其仪器与试剂 | 第37-41页 |
| 2.1 实验仪器 | 第37-38页 |
| 2.2 实验药剂 | 第38页 |
| 2.3 反应装置 | 第38-39页 |
| 2.4 Cd-UPTS/硅胶-IIP的合成方法 | 第39-40页 |
| 2.5 印迹材料和非印迹材料的表征 | 第40-41页 |
| 2.5.1 印迹材料和非印迹材料红外光谱表征 | 第40页 |
| 2.5.2 印迹材料和非印迹材料热重分析 | 第40-41页 |
| 第三章 Cd离子印迹聚合物合接枝率的研究 | 第41-49页 |
| 3.1 硅胶活化温度影响的研究 | 第41-42页 |
| 3.2 不同合成条件Cd(Ⅱ)表面印迹材料的接枝率 | 第42-47页 |
| 3.2.1 γ-脲基丙基三甲氧基硅烷(UPTS)剂量的影响 | 第43-44页 |
| 3.2.2 硅胶量的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.3 环氧氯丙烷剂量的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.4 反应温度的影响 | 第46-47页 |
| 3.3 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 Cd-UPTS/硅胶-IIP的性能表征 | 第49-53页 |
| 4.1 Cd-CTS/硅胶-IIP的红外光谱表征 | 第49-51页 |
| 4.2 印迹材料的热重分析 | 第51-52页 |
| 4.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 Cd(Ⅱ)表面印迹材料对重金属Cd离子吸附的研究 | 第53-59页 |
| 5.1 不同UPTS量合成Cd-UPTS/硅胶-IIP吸附性能研究 | 第53-54页 |
| 5.2 不同硅胶量合成Cd-UPTS/硅胶-IIP吸附性能研究 | 第54-55页 |
| 5.3 不同交联剂ECH量合成Cd-UPTS/硅胶-IIP吸附性能研究 | 第55-56页 |
| 5.4 不同温度合成Cd-UPTS/硅胶-IIP吸附性能研究 | 第56-57页 |
| 5.5 本章小结 | 第57-59页 |
| 第六章 结论与建议 | 第59-61页 |
| 6.1 结论 | 第59页 |
| 6.2 建议 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第75页 |
