| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 铁电材料简介 | 第9-12页 |
| 1.1.1 铁电材料概述 | 第9-10页 |
| 1.1.2 铁电材料的发展历史 | 第10-11页 |
| 1.1.3 铁电材料的应用 | 第11-12页 |
| 1.2 铁电材料的介电特性 | 第12-21页 |
| 1.2.1 电介质的极化机理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 介电性能的评价标准 | 第13-14页 |
| 1.2.3 介电可调性的理论研究 | 第14-17页 |
| 1.2.4 主要介电材料的研究现状 | 第17-19页 |
| 1.2.5 介电材料的改性方法 | 第19-21页 |
| 1.3 研究目的意义及内容 | 第21-22页 |
| 第2章 Sol-gel 法制备钛酸锶铅薄膜 | 第22-33页 |
| 2.1 铁电薄膜的制备方法 | 第22-24页 |
| 2.1.1 溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第22页 |
| 2.1.2 磁控溅射法(RF Sputtering) | 第22-23页 |
| 2.1.3 脉冲激光沉积法(PLD) | 第23页 |
| 2.1.4 金属有机物化学气相沉积法(MOCVD) | 第23-24页 |
| 2.2 铁电薄膜的测试与表征方法 | 第24-27页 |
| 2.2.1 X 射线衍射分析 | 第24-25页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
| 2.2.3 电滞回线的测试 | 第26页 |
| 2.2.4 介电特性的测试 | 第26-27页 |
| 2.3 实验准备 | 第27-30页 |
| 2.3.1 实验原料 | 第27-28页 |
| 2.3.2 实验设备及测试仪器 | 第28-29页 |
| 2.3.3 衬底清洗工艺 | 第29页 |
| 2.3.4 缓冲层制备工艺 | 第29-30页 |
| 2.4 薄膜样品的 Sol-gel 法制备 | 第30-33页 |
| 2.4.1 Sol-gel 法制膜的基本原理 | 第30-31页 |
| 2.4.2 薄膜前驱体溶液配制过程 | 第31页 |
| 2.4.3 薄膜的制备工艺与流程 | 第31-33页 |
| 第3章 La 掺杂 Pb_(0.9)Sr_(0.1)TiO_3铁电薄膜的结构与性能表征 | 第33-43页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 退火温度对 PLST 铁电薄膜性能的影响 | 第33-37页 |
| 3.2.1 退火温度对 PLST 铁电薄膜微观结构的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.2 退火温度对 PLST 铁电薄膜铁电性能的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.3 退火温度对 PLST 铁电薄膜介电性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.3 LaNiO_3缓冲层对 PLST 铁电薄膜性能的影响 | 第37-42页 |
| 3.3.1 LaNiO_3缓冲层对 PLST 铁电薄膜微观结构的影响 | 第37-38页 |
| 3.3.2 LaNiO_3缓冲层对 PLST 铁电薄膜铁电性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.3.3 LaNiO_3缓冲层对 PLST 铁电薄膜介电性能的影响 | 第39-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 Pb_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3铁电薄膜的结构与性能表征 | 第43-53页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 不同缓冲层对 PST 铁电薄膜性能的影响 | 第43-46页 |
| 4.2.1 不同缓冲层对 PST 铁电薄膜微观结构的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.2 不同缓冲层对 PST 铁电薄膜介电性能的影响 | 第44-46页 |
| 4.3 TiO_2缓冲层厚度对 PST 铁电薄膜性能的影响 | 第46-51页 |
| 4.3.1 TiO_2缓冲层厚度对 PST 铁电薄膜微观结构的影响 | 第47-48页 |
| 4.3.2 TiO_2缓冲层厚度对 PST 铁电薄膜介电性能的影响 | 第48-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第5章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 5.1 论文总结 | 第53-54页 |
| 5.2 工作展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读学位期间发表论文目录 | 第63-64页 |
| 个人简历 | 第64页 |
