| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 课题背景 | 第11-15页 |
| 1.1.1 光纤通信的发展历程 | 第11-12页 |
| 1.1.2 光纤通信的优点 | 第12-13页 |
| 1.1.3 光纤的分类 | 第13-15页 |
| 1.2 研究的目的和意义 | 第15-16页 |
| 1.3 光纤机械性能的国内外研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3.1 常温下光纤机械性能的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.3.2 经高温高湿处理的光纤机械性能的研究进展 | 第17页 |
| 1.3.3 经盐雾、硫化处理的光纤机械性能的研究进展 | 第17页 |
| 1.3.4 光纤缺陷的研究进展 | 第17-18页 |
| 1.4 主要工作和章节安排 | 第18-21页 |
| 1.4.1 主要工作 | 第18页 |
| 1.4.2 章节安排 | 第18-21页 |
| 第2章 光纤机械强度 | 第21-29页 |
| 2.1 光纤基础构成材料 | 第21页 |
| 2.2 光纤中的缺陷 | 第21页 |
| 2.3 光纤机械强度 | 第21-23页 |
| 2.3.1 光纤机械强度介绍 | 第21-22页 |
| 2.3.2 常温下光纤的断裂机理 | 第22-23页 |
| 2.4 光纤机械强度的分析方法 | 第23-26页 |
| 2.4.1 裂纹及断裂 | 第23-24页 |
| 2.4.2 裂纹生长 | 第24-25页 |
| 2.4.3 疲劳 | 第25页 |
| 2.4.4 使用寿命 | 第25-26页 |
| 2.4.5 抗拉强度 | 第26页 |
| 2.5 玻璃的强度理论 | 第26-27页 |
| 2.5.1 玻璃的强度 | 第26页 |
| 2.5.2 吸附 | 第26-27页 |
| 2.6 本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 光纤拉伸断裂性能试验研究 | 第29-39页 |
| 3.1 试验设备 | 第29-31页 |
| 3.1.1 光纤机械强度概述 | 第29页 |
| 3.1.2 数字显示器 | 第29页 |
| 3.1.3 夹具 | 第29-31页 |
| 3.2 试验试样的制备 | 第31-32页 |
| 3.2.1 光纤的有机涂覆层 | 第31页 |
| 3.2.2 光纤有机物涂覆层去除方法 | 第31页 |
| 3.2.3 光纤有机物涂覆层去除 | 第31-32页 |
| 3.3 光纤环境测试 | 第32-34页 |
| 3.4 光纤的拉伸断裂强度试验 | 第34-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-39页 |
| 第4章 光纤杨氏模量及弯曲损耗系数的测量 | 第39-53页 |
| 4.1 光纤杨氏模量的测量 | 第39-40页 |
| 4.1.1 试验原理 | 第39-40页 |
| 4.1.2 测试方法和结果 | 第40页 |
| 4.2 光纤弯曲损耗系数的测量 | 第40-50页 |
| 4.2.1 光纤弯曲损耗 | 第40-41页 |
| 4.2.2 光纤弯曲损耗的理论分析 | 第41-42页 |
| 4.2.3 试验方法 | 第42页 |
| 4.2.4 试验步骤 | 第42-43页 |
| 4.2.5 试验结果 | 第43-50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-53页 |
| 第5章 光纤断面检测 | 第53-59页 |
| 5.1 剪切力形成的弯曲断裂源 | 第53-54页 |
| 5.1.1 常温光纤形成的弯曲断裂源 | 第53-54页 |
| 5.1.2 经硫化处理后的光纤形成的断裂源 | 第54页 |
| 5.2 轴向拉力形成的断裂源 | 第54-56页 |
| 5.2.1 常温光纤形成的拉伸断裂源 | 第54-55页 |
| 5.2.2 经硫化处理后的光纤形成的断裂源 | 第55-56页 |
| 5.3 结论 | 第56-59页 |
| 第6章 总结和展望 | 第59-69页 |
| 6.1 总结 | 第59-60页 |
| 6.2 展望 | 第60-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第71页 |