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二次中性粒子飞秒后电离质谱技术研究金属表面溅射过程

摘要第4-5页
Abstract第5页
引言第9-11页
第一章 飞秒二次中性粒子质谱技术研究的理论依据第11-16页
    1.1 SNMS技术原理和飞秒电离的引入第11-12页
    1.2 飞秒激光技术的发展和产生的基本原理第12-14页
        1.2.1 飞秒激光器的发展第12-13页
        1.2.2 飞秒激光产生的基本原理第13-14页
    1.3 飞秒激光场中粒子的电离过程简述第14-16页
第二章 飞秒二次中性粒子质谱仪器的结构和部件设计第16-25页
    2.1 飞秒二次中性粒子质谱仪器的结构设计第16-18页
    2.2 二次中性粒子质谱部件装置的设计与选取第18-19页
        2.2.1 后电离离子光学提取场的设计第18-19页
        2.2.2 溅射源和后电离源的选取第19页
    2.3 飞秒二次中性粒子质谱仪器的调试与优化第19-25页
        2.3.1 提取电极电压比例的调试第19-21页
        2.3.2 后电离区域的选择第21-23页
        2.3.3 实验腔体的设计和真空度第23-25页
第三章 飞秒二次中性粒子质谱技术下的金属靶材溅射过程分析第25-42页
    3.1 金属铜飞秒激光后电离信号增益效果探究第25-27页
    3.2 合金溅射粒子的飞秒激光后电离定量分析效果探究第27-36页
        3.2.1 平行束飞秒激光场中的元素电离理论第27-28页
        3.2.2 Cu-Be合金的元素定量比例测定第28-32页
        3.2.3 Ni-Cr合金的元素定量比例测定第32-34页
        3.2.4 飞秒强激光场下的元素电离效率分析第34-36页
    3.3 溅射激光功率对金属中性粒子分布影响的探究第36-42页
        3.3.1 激光溅射金属中性粒子的物理过程第36-37页
        3.3.2 溅射中性粒子速率分布的麦克斯韦拟合第37-39页
        3.3.3 中性溅射金属粒子传播速率与溅射激光功率关系的探究第39-42页
结论第42-43页
参考文献第43-47页
硕士期间发表论文情况第47-48页
致谢第48页

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