摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
引言 | 第9-11页 |
第一章 飞秒二次中性粒子质谱技术研究的理论依据 | 第11-16页 |
1.1 SNMS技术原理和飞秒电离的引入 | 第11-12页 |
1.2 飞秒激光技术的发展和产生的基本原理 | 第12-14页 |
1.2.1 飞秒激光器的发展 | 第12-13页 |
1.2.2 飞秒激光产生的基本原理 | 第13-14页 |
1.3 飞秒激光场中粒子的电离过程简述 | 第14-16页 |
第二章 飞秒二次中性粒子质谱仪器的结构和部件设计 | 第16-25页 |
2.1 飞秒二次中性粒子质谱仪器的结构设计 | 第16-18页 |
2.2 二次中性粒子质谱部件装置的设计与选取 | 第18-19页 |
2.2.1 后电离离子光学提取场的设计 | 第18-19页 |
2.2.2 溅射源和后电离源的选取 | 第19页 |
2.3 飞秒二次中性粒子质谱仪器的调试与优化 | 第19-25页 |
2.3.1 提取电极电压比例的调试 | 第19-21页 |
2.3.2 后电离区域的选择 | 第21-23页 |
2.3.3 实验腔体的设计和真空度 | 第23-25页 |
第三章 飞秒二次中性粒子质谱技术下的金属靶材溅射过程分析 | 第25-42页 |
3.1 金属铜飞秒激光后电离信号增益效果探究 | 第25-27页 |
3.2 合金溅射粒子的飞秒激光后电离定量分析效果探究 | 第27-36页 |
3.2.1 平行束飞秒激光场中的元素电离理论 | 第27-28页 |
3.2.2 Cu-Be合金的元素定量比例测定 | 第28-32页 |
3.2.3 Ni-Cr合金的元素定量比例测定 | 第32-34页 |
3.2.4 飞秒强激光场下的元素电离效率分析 | 第34-36页 |
3.3 溅射激光功率对金属中性粒子分布影响的探究 | 第36-42页 |
3.3.1 激光溅射金属中性粒子的物理过程 | 第36-37页 |
3.3.2 溅射中性粒子速率分布的麦克斯韦拟合 | 第37-39页 |
3.3.3 中性溅射金属粒子传播速率与溅射激光功率关系的探究 | 第39-42页 |
结论 | 第42-43页 |
参考文献 | 第43-47页 |
硕士期间发表论文情况 | 第47-48页 |
致谢 | 第48页 |