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硅基二氧化硅阵列波导光栅波分复用器件的研究制作

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第9-26页
    1.1 光通信的发展第9-10页
    1.2 WDM技术介绍第10-15页
        1.2.1 WDM基本原理第10-11页
        1.2.2 WDM技术基础第11-15页
    1.3 波分复用器件第15-21页
        1.3.1 多层介质薄膜波分复用器件第15-17页
        1.3.2 布拉格光纤光栅波分复用器件第17页
        1.3.3 阵列波导光栅波分复用器件第17-18页
        1.3.4 AWG与其它波分复用器件的比较第18-20页
        1.3.5 国内外AWG研究现状和进展第20-21页
    1.4 本论文的主要内容第21-22页
    参考文献第22-26页
第二章 光波导基本理论第26-56页
    2.1 硅基二氧化硅光波导简介第26-28页
        2.1.1 硅基二氧化硅光波导类型第26-27页
        2.1.2 硅基二氧化硅光波导制作方法第27-28页
    2.2 电磁理论基础第28-32页
        2.2.1 Maxwell方程组第28-29页
        2.2.2 波动方程第29-31页
        2.2.3 边界条件第31-32页
    2.3 三层平板介质光波导第32-34页
        2.3.1 TE模式第32-33页
        2.3.2 TM模式第33-34页
    2.4 等效折射率方法第34-35页
    2.5 有限差分方法第35-39页
        2.5.1 有限差分原理第35-36页
        2.5.2 半矢量有限差分方法第36-39页
    2.6 有限差分光束传播方法第39-46页
        2.6.1 非均匀介质二维波动方程第40页
        2.6.2 旁轴BPM第40-41页
        2.6.3 广角BPM第41-44页
        2.6.4 边界条件第44-46页
    2.7 时域光束传播方法第46-52页
        2.7.1 TD-BPM方法及其数值求解第46-48页
        2.7.2 单向激励源在不连续界面处的处理第48-49页
        2.7.3 数值模拟结果第49-52页
    2.8 本章小结第52页
    参考文献第52-56页
第三章 AWG基本原理及设计第56-76页
    3.1 AWG基本原理第56-59页
        3.1.1 AWG结构及参数说明第56-57页
        3.1.2 AWG设计基本公式第57-59页
    3.2 AWG基本设计方法第59-74页
        3.2.1 AWG整体设计过程第59-60页
        3.2.2 波导结构与模式分析第60-64页
        3.2.3 AWG的版图设计第64-69页
        3.2.4 16通道100GHz AWG的设计实例第69-74页
    3.3 本章小结第74页
    参考文献第74-76页
第四章 AWG器件模拟方法研究第76-98页
    4.1 基于高斯光束的简单模拟方法第76-89页
        4.1.1 高斯光束第76-77页
        4.1.2 AWG器件的模拟过程第77-82页
        4.1.3 高斯光束传播公式的修正第82-89页
    4.2 基于FD-BPM的AWG模拟方法第89-96页
        4.2.1 FD-BPM的模拟方法第90-92页
        4.2.2 设计实例及模拟结果第92-96页
    4.3 本章小结第96页
    参考文献第96-98页
第五章 AWG结构设计改进及性能改善第98-138页
    5.1 前言第98-99页
    5.2 对称型AWG像差理论基础第99-103页
        5.2.1 对称型AWG结构说明第99-100页
        5.2.2 光程函数的定义第100-101页
        5.2.3 光程函数的泰勒级数展开第101-102页
        5.2.4 二阶成像条件确定聚焦曲线第102-103页
    5.3 Rowland圆结构AWG分析第103-104页
    5.4 多点消像差方法设计改进型AWG第104-109页
        5.4.1 多点消像差方法基本原理第104-105页
        5.4.2 三点消像差方法第105-107页
        5.4.3 两点消像差方法第107-109页
        5.4.4 标量衍射模拟方法简介第109页
    5.5 80通道100GHz AWG的设计第109-117页
        5.5.1 Rowland圆结构设计第109-110页
        5.5.2 三点消像差方法设计及分析第110-117页
    5.6 平场型80通道100GHz AWG的设计第117-122页
        5.6.1 平场型AWG基本概念第117-118页
        5.6.2 平场型AWG设计方法第118-119页
        5.6.3 设计结果分析第119-122页
    5.7 多光栅频谱平坦化AWG设计第122-130页
        5.7.1 双光栅频谱平坦化原理第122-124页
        5.7.2 三点消像差方法实现双光栅频谱平坦化第124-130页
    5.8 40通道平场型频谱平坦化设计第130-134页
    5.9 本章小结第134-135页
    参考文献第135-138页
第六章 AWG波分复用器件的实验制作第138-157页
    6.1 实验制作条件及器件制作方案第138-139页
    6.2 AWG器件实验制作关键技术第139-148页
        6.2.1 PECVD方法制备SiO_2薄膜第139-142页
        6.2.2 Lift-Off金属掩膜制作技术第142-146页
        6.2.3 ICP方法刻蚀SiO_2薄膜第146-148页
    6.3 AWG器件制作实验结果第148-154页
        6.3.1 实验制作的AWG设计参数第148-150页
        6.3.2 AWG器件测试结果及分析第150-154页
    6.4 本章小结第154页
    参考文献第154-157页
第七章 总结与展望第157-159页
作者在攻读博士学位期间发表的论文列表第159-160页
致谢第160页

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